[其他]含有環(huán)狀氟化磺酸鹽表面活性劑蝕刻溶液無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 86103055 | 申請(qǐng)日: | 1986-04-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN86103055A | 公開(公告)日: | 1986-11-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅納德·詹姆斯·霍普金斯;伊萬·高爾·湯姆斯;哈羅德·約翰·基塔 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 阿蘭德公司 |
| 主分類號(hào): | C09K13/00 | 分類號(hào): | C09K13/00 |
| 代理公司: | 上海專利事務(wù)所 | 代理人: | 全永留 |
| 地址: | 美國新澤西州0796*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 含有 環(huán)狀 氟化 磺酸鹽 表面活性劑 蝕刻 溶液 | ||
1、一種包含可溶性表面活性劑且阻止表面活性劑沉淀的蝕刻溶液,其特征在于所說的溶液包括氟化銨和表面活性劑的一種水狀混合物,所說混合物含有氟化銨(NH4F)13.5-45(重量)%以及具有以下結(jié)構(gòu)式的氟化環(huán)烷烴磺酸鹽和(或)氟化環(huán)烯烴磺酸鹽25-2000PPm,
式中:n為小于等于6的一個(gè)數(shù)值,X可以是F、Cl、H、OH、SSO4A、R或者可略去R,Y可以是F-、Cl、H、OH-、R或者可略去R、A可以是H+、NH+4、Na+、K+、Li+、R+或者NR+4,其中R為1-4個(gè)碳原子的烷基和(或)氟烷基及它們的混合物,其余為水。
2、如權(quán)利要求1所說的一種蝕刻溶液,其特征在于所說的溶液含有高達(dá)11(重量)%的氟化氫。
3、如權(quán)利要求1所說的一種蝕刻溶液,其特征在于所說的氟化環(huán)類表面活性劑中“n”具有2-4數(shù)值。
4、如權(quán)利要求1所說的一種蝕刻溶液,其特征在于所說的氟化環(huán)類表面活性劑是具有低金屬離子含量的銨鹽。
5、如權(quán)利要求1所說的一種蝕刻溶液,其特征在于所說的氟化環(huán)烷烴或者環(huán)烯烴磺酸鹽是氟化環(huán)烷烴或者環(huán)烯烴磺酸。
6、如權(quán)利要求1所說的一種蝕刻溶液,其特征在于所說的氟化環(huán)表面活性劑的存在量為200-5000ppm,并以干燥固體或者以極性水溶劑混合的溶液添加到蝕刻溶液中。
7、如權(quán)利要求1所說的一種蝕刻溶液,其特征在于所說的溶液含有高達(dá)11(重量)%的氟化氫、200-1000ppm的氟化環(huán)類表面活性劑以及減少腐蝕的稀釋劑。
8、如權(quán)利要求2所說的一種蝕刻溶液,其特征在于所說的溶液含有高達(dá)50(重量)%的用于降低腐蝕的稀釋劑,所說稀釋劑是由醋酸、乙二醇以及1-3個(gè)碳原子的醇組成的組中選擇的。
9、一種制備蝕刻溶液的工藝,其特征在于所說的工藝包括將49(重量)%的氟化氫水溶液和15-40(重量)%的氟化銨水溶液摻合,并添加200-5000ppm的有效的氟化環(huán)類表面活性劑。
10、如權(quán)利要求9所說的工藝,其特征在于所說的氟化銨水溶液含有大約30(重量)%的NH4F。
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