[其他]連續(xù)減少和除去炭結(jié)構(gòu)中所含礦物的化學(xué)處理方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 86101114
• 申請日: 1986-02-19
• 公開（公告）號: CN86101114A
• 公開（公告）日: 1986-08-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 羅伯特·勞埃德;馬克斯韋爾·詹姆斯特納
• 申請（專利權(quán)）人: 韋梅特有限公司
• 主分類號: C01B31/02
• 分類號: C01B31/02;C01B31/04
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 巫肖南

1、一種炭的處理過程，其特征是，將炭中含有的灰份經(jīng)過氟基酸液(含有氟硅酸水溶液和氫氟酸)處理后除去，氟基酸液使其中存在的氧化金屬變成氟化金屬或/同氟硅金屬化合物，并將處理的炭自此兩種生成的氟化金屬或/同氟硅金屬化合物中分離出。

2、按權(quán)利要求1的處理過程，其特征是，該酸液是在飽和氟硅酸水溶液中加入無水氫氟酸氣體配制成。

3、按權(quán)利要求1或2的處理過程，其特征是，炭與酸液的處理是在壓力14～19PSIA情況下進行。

4、按權(quán)利要求1至3的處理過程，其特征是，所述炭在處理之前都已將顆粒減小至大約小于2mm的尺寸。

5、按權(quán)利要求1至4的處理過程，其特征是，所述炭進一步在至少一個管狀反應(yīng)器中與酸液進行處理以確保被處理的炭同酸液之間有連續(xù)的接觸。

6、按權(quán)利要求5的處理過程，其特征是，至少一個管狀反應(yīng)器該有超音波震動裝置以便被處理的炭可以進一步作用。

7、按權(quán)利要求5或6的處理過程，其特征是，炭是在溫度65℃～70℃之間，壓力介于50～70PSIA情況下作進一步處理。

8、按權(quán)利要求1至7的處理過程，其特征是，被處理的炭被視為固體與液體分離階段的過濾媒介，將懸游在濾液中的氟化金屬或/同氟硅金屬化合物依附存留在炭的表面。

9、按權(quán)利要求1至8的處理過程，其特征是，被處理的炭或進一步待處理的炭都經(jīng)氟硅酸液清洗以便將依附在炭表面的氟化金屬轉(zhuǎn)變成氟硅金屬化合物，然后，移除氟硅金屬化合物。

10、按權(quán)利要求4的處理過程，其特征是，所述炭（處理過或待進一步處理）被加熱至溫度250～400℃以便炭中的氟硅酸（H₂SiF₆）可以形成SiF₄和HF逸出。

11、按權(quán)利要求10的的處理過程，其特征是，產(chǎn)生的SiF₄和HF氣體用一般的水洗方式清洗以回收氟化氫（HF）并使SiF₄同H₂O作用產(chǎn)生SiO₂和HF。

12、按權(quán)利要求1至10的處理過程，其特征是，產(chǎn)生的氟化硅（SiF₄）氣體都被加于水中以便生成H₂SiF₆，H₂O和SiO₂。

13、按權(quán)利要求12的處理過程，其特征是，處理產(chǎn)生的二氧化硅（SiO₂）被沉淀自水中結(jié)晶析出。

14、按權(quán)利要求12的處理過程，其特征是，清洗塔中產(chǎn)生的H₂SiF₆和H₂O被加熱以便自H₂SiF₆中放出SiF₄這使得與較多的HF作用的SiO₂不足，因而可以產(chǎn)生二個分子的HF。

15、按權(quán)利要求12的處理過程，其特征是，H₂SiF₆濃度會增加。

16、按權(quán)利要求11的處理過程，其特征是，產(chǎn)生的HF被循環(huán)送回以制造酸液。

17、按權(quán)利要求11的處理過程，其特征是，產(chǎn)生的SiF₄與更多的水作用以便產(chǎn)生H₂SiF₆。

18、按權(quán)利要求12或13的處理過程，其特征是，產(chǎn)生的H₂SiF₆被循環(huán)送回以制造酸液。