[其他]用于真空離心式粉碎機的固體顆粒拋射裝置無效
| 申請號: | 86100993 | 申請日: | 1986-02-14 |
| 公開(公告)號: | CN86100993B | 公開(公告)日: | 1988-04-06 |
| 發明(設計)人: | 格拉德·塞維林格 | 申請(專利權)人: | 法瑪湯姆公司 |
| 主分類號: | B02C19/00 | 分類號: | B02C19/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人: | 李毅,孫蜀宗 |
| 地址: | 法國古柏瓦*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 真空 離心 粉碎機 固體 顆粒 拋射 裝置 | ||
1、真空離心式粉碎機的固體顆粒拋射裝置有一個高速旋轉的分料盤20,它把來自給料腔(23)的顆粒物料拋射到靶標(8)上,腔(23)在上述盤的軸線上,在盤內開有多個通道(21,22),處在該盤內的通道與其軸線垂直,同時在分料盤的圓周上有向外開的排料出口(24,25),其特征在于每個通道(21,22)內有一條由正曲線A形成的顆粒導向面,該曲線沿著與分料盤(20)的旋轉方向相同的方向彎曲,使通道內產生一層與導向面接觸并由顆粒本身形成的穩定的自身保護層(30),所說的正曲線A是根據相接觸的物料摩擦系數計算出的輪廓線,同時下列的條件:
ψ+Ψ≥π/2
對這條曲線的任何點都是適用的,其中φ是由曲線的切線及該點的矢量半徑形成的角度,而是其正切等于物料摩擦系數的角度。
2、根據權利要求1的裝置,其特征在于在每個通道(21,22)內,穩定的自身保護層(30)在中央給料腔(23)和拋射排料出口(24,25)之間形成一個顆粒滑動表面,該表面是一條滿足ψ+Ψ≤π/2的臨界曲線。
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