[其他]制備永磁合金粉末的還原擴散工藝無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 86100769 | 申請日： | 1986-03-18 |
| 公開（公告）號： | CN86100769A | 公開（公告）日： | 1987-09-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 周少雄;李東 | 申請（專利權(quán)）人： | 冶金工業(yè)部鋼鐵研究總院 |
| 主分類號： | B22F9/00 | 分類號： | B22F9/00;B22F9/20;H01F1/06 |
| 代理公司： | 冶金專利事務所 | 代理人： | 金向榮 |
| 地址： | 北京市學院*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 制備 永磁 合金 粉末 還原 擴散 工藝 | ||
【權(quán)利要求書】：
1、一種制備釹鐵硼合金粉末的還原擴散工藝，其特征在于嚴格控制還原擴散加熱溫度和保溫時間，還原擴散后的釹鐵硼合金結(jié)塊置于一種由DE，氫氧化鈉，乙酸銨和水組成化學分離漂洗液中進行漂洗。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述工藝，其特征在于還原擴散工藝參數(shù)是在氬氣保護下，加熱升溫，850℃保溫2～3小時，繼續(xù)升溫到1000℃～1020℃保溫1～2小時，接著再升溫至1080℃～1100℃保溫2～4小時，淬火采用爐管水淬至室溫。
3、根據(jù)權(quán)利要求1所述工藝，其特征在于化學分離漂洗液的組成（重量百分比）為：DE1～3%，氫氧化鈉0.1～0.8%，乙酸銨1～10%，余為水。
4、根據(jù)權(quán)利要求1和3所述工藝，其特征在于DE為乙二胺四乙酸或乙二胺四乙酸二鈉。
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