[其他]帶有保護(hù)涂層的碳或石墨體及其生產(chǎn)方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 85109647
• 申請(qǐng)日: 1985-12-19
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN85109647A
• 公開(kāi)（公告）日: 1986-08-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 海茵里克·庫(kù)恩;奧拉夫·斯蒂茨;卡爾·維默
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 普拉斯馬英萬(wàn)特股份公司
• 主分類號(hào): C23C4/04
• 分類號(hào): C23C4/04;H05B7/085
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利代理部
• 代理人: 陳季壯,羅英銘

1、具有粗糙、開(kāi)孔表面和在其上沉積有硅層的碳或石墨體，其特征在于所說(shuō)的硅層十分致密，殘余孔隙率為2%，所說(shuō)的表面得以完全覆蓋，而且由于內(nèi)部的壓縮回彈性應(yīng)變和抗氧化物性，使所述的硅層具有硅材料本身所不具備的延展性，因而在因溫度變化引起強(qiáng)烈應(yīng)變條件下阻止形成裂縫。

2、一種用等離子噴涂法在碳或石墨體表面涂敷含硅保護(hù)層的方法，其特征在于：使用粒度小于0.1mm的硅粉，在作為等離子氣體的惰性氣體-氫混合物中，于真空度不高于250毫巴的密閉真空室中，借助于真空等離子噴涂技術(shù)，在所說(shuō)表面上產(chǎn)生0.1至0.4mm厚的保護(hù)層，所說(shuō)保護(hù)層的密度至少相當(dāng)于其理論密度的96%。

3、按照權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于在一個(gè)涂敷室中經(jīng)真空去氣后立即直接涂敷石墨表面，而無(wú)需任何機(jī)械預(yù)處理。

4、按照權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于使用粒度為0.03至0.06mm的硅粉。

5、按照權(quán)利要求2至4中任何一項(xiàng)所述的方法，其特征在于使用氬-氫混合物作為等離子氣體。

6、按照權(quán)利要求2至5中任何一項(xiàng)所述的方法，其特征在于使用60-70%體積的氬和40-30%體積氫所組成的混合物作為等離子氣體。

7、按照權(quán)利要求2至6中任何一項(xiàng)所述的方法，其特征在于使用的氣氛壓力為50至150毫巴。

8、按照權(quán)利要求2至7中任何一項(xiàng)所述的方法，其特征在于制成厚度為0.25至0.35mm的保護(hù)層。

9、按照權(quán)利要求2至8中任何一項(xiàng)所述的方法，其特征在于制成在其厚度上組成有變化的保護(hù)層。

10、按照權(quán)利要求2至9中任何一項(xiàng)所述的方法，其特征在于得物體表面打毛后進(jìn)行涂敷。

11、應(yīng)用權(quán)利要求2所述的方法涂敷電弧爐用石墨電極組件。