[其他]抗菌素衍生物的制備方法無效
| 申請號: | 85109633 | 申請日: | 1985-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN85109633A | 公開(公告)日: | 1987-01-07 |
| 發明(設計)人: | 吉岡晃一;原田夫;落合道彥 | 申請(專利權)人: | 武田藥品工業株式會社 |
| 主分類號: | C07D413/04 | 分類號: | C07D413/04;A61K31/395;//;30732;26104) |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 李雒英,巫肖南 |
| 地址: | 日本大阪府大阪*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 抗菌素 衍生物 制備 方法 | ||
1、一種如下式化合物的制備方法,其特征是:
其中R1′是一個通過氮鍵連接的有機殘基;X是氫,甲氧基或甲酰氨基,和R2是羧基或其衍生基團,它包括將式為:
的化合物,其X和R2如上所規定,和一能引進一個通過氮鍵形成有機殘基團的化合物的反應。
2、如在權利要求1中所要求的一種方法,其中R1′是一個通過氮鍵連接的有機殘基選自包括酰氨基,經碳取代的氨基,鏈烯基氨基,硫代氨基,甲硅烷氨基和由式:-CO-CO-NH-代表的基團。
3、如在權利要求1中所要求的一種方法,其中R1′是酰氨基。
4、如在權利要求3中所要求的一種方法,其中酰氨基的酰基部分是已知青霉素衍生物和頭孢菌素衍生物的6-和7-氨基上常用酰基中的任何一個。
5、如在權利要求3中所要求的一種方法,其中酰氨基是式為:
的基團其中R3是氫,烷基*,鏈烯基*,環烷基*,芳基*,雜環*,烷氧基*,或芳氧基*;R4是氫或烷基*,和R4還同R3合并成環*,
式為:
的基團其中R5是氫,氨基酸殘基*,氨基保護基團或-由式R7-(CH2)n-C(=Z)-代表的基團{其中R7是一雜環*,烷氧基*或氨基*;n是0.1或2;Z是O或S};R6是烷基*,芳基*,環鏈烯基*或雜環*;
式為:
R8-R9-CO-NH-
的基團其中R8是由式表的基團{其中R10是烷基*,雜環*或芳基*;R11是氫,烷基*,鏈烯基*,環烷基*,雜環*或-由式-R12-R13代表的基團(其中R12是亞烷基*,環亞烷基或亞烯基;R13是芳基*,羧基*或其酯或單一或雙烷基酰氨);R9是-化學鍵或-由式代表的基團(其中R14是烷基*,芳基*或雜環*),
式為:
的基團其中R15是芳基*,雜環*或環鏈烯基*;R16是羥基,氨磺酰基,磺基、次磺酸基或酰氧基*;
式為:
R17-R18-CH2-CO-NH-
的基團其中R17是烷基*,氰基,芳基*,芳氧基*,亞烯基,雜環*,氨基*或-由式R17′-C(=S)-代表的基團(其中R17′是烷氧基);R18是化學鍵或-S-;或式為:
的基團其中R19和R20是相同的或不同的并各自代表氫,烷基*,芳基*,雜環*或環烷基;Z是O或S,其中右上角標以“*”號的基團可被一至三個取代基取代。
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