[其他]產(chǎn)生運動信號的方法和實現(xiàn)此方法的中分辨紅外X射線斷層照相裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 85109632 | 申請日: | 1985-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN85109632A | 公開(公告)日: | 1986-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 德克·布伊克曼;托馬斯·希爾澤爾;彼得·羅希曼 | 申請(專利權(quán))人: | 菲利浦光燈制造公司 |
| 主分類號: | A61B5/05 | 分類號: | A61B5/05;G01N24/08 |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 吳秉芬,黃向陽 |
| 地址: | 荷蘭艾恩德*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 產(chǎn)生 運動 信號 方法 實現(xiàn) 分辨 紅外 射線 斷層 照相 裝置 | ||
1、用一個MRIx射線斷層照相裝置產(chǎn)生取決于被檢驗人體運動的運動信號的方法,其特征是,在檢驗時,高頻線圈系統(tǒng)(33;34)的阻抗在諧振頻率范圍內(nèi)被測量,其磁場作用在被檢驗人體(3)上并調(diào)諧到預(yù)定諧振頻率,于是形成由測量信號導(dǎo)出的運動信號。
2、實現(xiàn)權(quán)利要求1中所述的方法的一個MRI??x射線斷層照相裝置,包括第一高頻線圈系統(tǒng)(4),用于產(chǎn)生含有拉莫爾頻率的高頻磁場并接收自旋共振信號,其特征是,為產(chǎn)生運動信號,還具有第二高頻線圈系統(tǒng)(33;34),其阻抗由阻抗測量裝置(35,46)來測量。
3、按照權(quán)利要求2所述的MRI??x射線斷層照相裝置,其特征是,第二高頻線圈系統(tǒng)(33;34)調(diào)諧到實際上偏離質(zhì)子諧振頻率的一個諧振頻率,它最好是顯著地高于雜子的諧振頻率。
4、按照權(quán)利要求2或3所述的MRI??x射線斷層照相裝置,其特征是,第二高頻線圈系統(tǒng)(33;34)要設(shè)置得使其產(chǎn)生的磁場至少要基本上垂直于第一個高頻線圈系統(tǒng)(4)的磁場。
5、按照權(quán)利要求2到4的任一個所要求的MRI??x射線斷層照相裝置,其特征是,第二個高頻線圈系統(tǒng)(33;34)以這這樣一種方式包括在一個濾波器裝置(36……39)中,使得第一高頻率圈系統(tǒng)被第二個高頻線圈系統(tǒng)提取的能量盡可能小。
6、按照權(quán)利要求2到5的任一個所要求的MRI??x射線斷層照相裝置,其特征是,具有一個開關(guān)裝置(可能為),此裝置在第一個高頻線圈系統(tǒng)產(chǎn)生磁場時止住運動信號。
7、按照權(quán)利要求2到6的任一個所要求的MRI??x射線斷層照相裝置,其特征是,第二個高頻線圈系統(tǒng)(33)機械地剛性連接到第一個頻線圈系統(tǒng),或是易滑動的在一個平面上。
8、按照權(quán)利要求2到6的任一個所要求的MRI??x射線斷層照相裝置,其特征是,可把第二個高頻圈系統(tǒng)(34)離開第一高頻線圈系統(tǒng)獨立地放置。
9、實現(xiàn)權(quán)利要求1所述方法的一個MRI??x射線斷層照相裝置,包括一個用于測量高頻線圈系統(tǒng)阻抗的阻抗測量裝置,該系統(tǒng)用于產(chǎn)生高頻磁場并接收自旋共振信號,其特征是,阻抗測量裝置(12,15,16;35,46,可能為)在檢驗人體(3)時被開動,于是產(chǎn)生的測量信號被用作為運動信號。
10、按照權(quán)利要求9所述的MRI??x射線斷層照相裝置,其特征是,阻抗測量裝置在高頻線圈系統(tǒng)(4)(圖2所示)產(chǎn)生高頻磁場時被開動。
11、按照權(quán)利要求10所述的MRI??x射線斷層照相裝置,其特征是,阻抗測量裝置(12)被做成一個反射計連接在高頻線圈系統(tǒng)(4)和高頻發(fā)生器(10)之間,高頻發(fā)生器(10)向高頻線圈系統(tǒng)(4)輸送信號。
12、按照權(quán)利要求9所述的MRI??x射線斷層照相裝置,其特征是,高頻線圈系統(tǒng)(4)通過一個開關(guān)裝置(9),于開關(guān)第一位置連到高頻發(fā)生器(10);于開關(guān)第二位置連到接收機(11),以便接收自旋共振信號;于開關(guān)第三位置連到阻抗測量裝置(15,16),在檢驗時開關(guān)裝置也處于其第三個位置,阻抗測量裝置當(dāng)連接到高頻線圈系統(tǒng)時是可開動的。
13、按照權(quán)利要求12或權(quán)利要求2到8的任一個所要求MPI??x射線斷層照相裝置,其特征是,阻抗測量是在偏離自旋共振頻率的一個頻率上進行的。
14、按照權(quán)利要求9所述的MRI??x射線斷層照相裝置,其特征是,阻抗測量裝置是在高頻線圈系統(tǒng)的第二個諧振率測量阻抗的,這個頻率實際上高于自旋信號的頻率。
15、按照權(quán)利要求2或4到14的任何一個所要求的MRI??x射線斷層照相裝置,其特征是,阻抗測量裝置測量高頻線圈系統(tǒng)(4;33,34)阻抗所用的測量頻率,要稍微偏離開高頻線圈系統(tǒng)的諧振頻率。
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