[其他]MOS場效應晶體管的柵壓溫度篩選方法無效
| 申請號: | 85107886 | 申請日: | 1985-10-18 |
| 公開(公告)號: | CN85107886B | 公開(公告)日: | 1988-02-24 |
| 發明(設計)人: | 苗慶海;劉可辛 | 申請(專利權)人: | 山東大學 |
| 主分類號: | H01L21/145 | 分類號: | H01L21/145;G01R31/26 |
| 代理公司: | 山東大學專利事務所 | 代理人: | 王緒銀,楊富賢 |
| 地址: | 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | mos 場效應 晶體管 溫度 篩選 方法 | ||
本發明屬于MOS場效應晶體管的一種篩選方法。
MOS場效應晶體管,由于柵結構是由MOS系統構成,它的質量直接反映出MOS場效應晶體管的穩定性和可靠性。如果在MOS系統中存在有過多的帶電粒子,例如氧化層中固定的電荷和可動電荷等,會使MOS場效應晶體管的閾電壓(VT)產生過大的漂移和偏離設計的預定值,則穩定性和可靠性差。為了剔除性能不穩定和可靠性差的管子,目前采用熱電老化篩選方法。它是將晶體管加上一定的電功率,在高溫下試驗一段時間,然后測量其電參數。但這種方法,所施加的柵壓不高,未能促使可動電荷充分漂移,篩選效率低,試驗中維護工作量大。另外有美國專利“MOS場效應晶體管的穩定性試驗”(1975年美國專利3,882,391號)。它采用的方法是測量原來的和施加柵壓(在室溫下)后的MOS柵的平帶電壓之差。由此來確定晶體管的可靠性,并且來確定磷硅玻璃層(柵氧化層覆蓋有磷硅玻璃時)的質量,檢驗磷硅玻璃層的厚度是否足以吸收可動電荷。這種方法設備較多,測量和計算的數據較多,并且不是直接測量晶體管的參數。
本發明的目的在于提高MOS場效應晶體管的篩選效率,能夠更有效地剔除性能不穩定、可靠性差的晶體管,而對優質正品晶體管無損傷。
為了達到上述目的,本發明是將MOS場效應晶體管的源極和漏極短接,柵極和源極之間施加適當的直流偏壓,進行恒溫熱處理。比較試驗前后的閾電壓數值,即可篩次選好。附圖說明:附圖為實現篩選方案的電路系統圖。圖中G、D、S分別代表MOS場效應晶體管的柵極、漏極和源極。1W、100KΩ為碳膜電阻,作為柵極保護用。50V、0.01μF電容器作為瞬時高頻電流通路用,排除外界高頻感應的干擾。2個30V穩壓管作為柵極過電壓保護用。MOS管的柵極通過1W、100KΩ電阻與電源線相接,源極和漏極短接后接地線。在電源線上施加直流10-25V電壓。
按照附圖給出的電路系統,將MOS場效應晶體管的源極和漏極短接,在柵極和源極間施加一定的直流偏壓,例如10-25伏(電壓按柵介質厚度而定),使柵介質中的電場強度達到1×106伏/厘米數量級的情況下作恒溫熱處理。這樣,柵介質中沾污的可動離子就會被激活,并產生定向運動,導致晶體管的閾電壓發生變化。比較處理前后的閾電壓數值,則質量優良的晶體管閾電壓變化小,質量差的晶體管閾電壓變化大,根據這一點就可以剔除質量差的晶體管,選出質量好的晶體管。由于漏源間未加電功率,所以晶體管不會過載。
優先實施方案:按附圖裝設好篩選用的電路板。測量待試驗晶體管的閾電壓值VT(室溫下測量)。然后將晶體管插在電路板上的管座上,此時源極和漏極短路,柵極和源極之間施加有直流15伏偏壓(假設柵介質層厚為150nm),電源可用普通的晶體管直流穩壓電源(例如若接入100支晶體管時,可用10-25V、1A的直流穩壓電源)。放入150℃-170℃的電熱恒溫箱中30分鐘后,保持柵壓不變,取出置于室溫中,當管殼溫度降到室溫時,再去除偏壓。復測閾電壓值VT′。比較變化量△VT=|VT′-VT|。△VT大的晶體管即為可靠性差的晶體管。例如可取△VT≥1伏為次品。
本篩選方案優點是篩選效率高,可同時篩選大批量的晶體管,不需施加電功率,節省能源,儀器設備簡單,操作容易,試驗周期短,不損傷正品管,可以有效地剔除穩定性和可靠性差的管子。本方法可用作熱電老化篩選晶體管,也可用作質量檢驗用。
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