[其他]用于真空沉積鍍層的方法和裝置

無效

• 申請號: 85107585
• 申請日: 1985-10-14
• 公開（公告）號: CN85107585A
• 公開（公告）日: 1987-05-06
• 發明（設計）人: 古川平三郎;和氣完治;下里省夫;柳謙一;加藤光雄;和田哲義;筑地憲夫;愛甲琢哉;橘高敏晴;中西康二
• 申請（專利權）人: 三菱重工業株式會社;日新制鋼株式會社
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利代理部
• 代理人: 姚珊

1、一種用于真空沉積鍍層的方法，包括使用真空沉積鍍層的裝置，該裝置包括：設在真空沉積鍍層室前面的一入口側真空密封裝置，設在上述入口側真空密封裝置和一退火爐之間的一入口側不活潑氣體置換室，設在上述真空沉積鍍層室后面的一出口側真空密封裝置，設在上述出口側真空密封裝置與大氣之間的一出口側不活潑氣體置換室，用于使不活潑氣體從上述兩個真空密封裝置的真空室循環到上述兩個真空密封裝置的大氣壓力室、及用于從不活潑氣體中分離出水、油和氧的不活潑氣體循環/純化裝置；上述用于真空沉積鍍層的方法，其特征為，將純化后不活潑氣體中氧的濃度調整為60ppm或更低，氫的濃度調整為0.2～2.0%，將不活潑氣體的露點調整為-50℃或更低。

2、一種用于真空沉積鍍層的方法，包括使用真空沉積鍍層的裝置，該裝置包括：設在真空沉積鍍層室前面的一入口側真空密封裝置，設在上述入口側真空密封裝置和一退火爐之間的一入口側不活潑氣體置換室，設在上述真空沉積鍍層室后面的一出口側真空密封裝置，設在上述出口側真空密封裝置與大氣之間的一出口側不活潑氣體置換室，用于使不活潑氣體從上述兩個真空密封裝置的真空室循環到上述兩個真空密封裝置的大氣壓力室、及用于從上述不活潑氣體中分離出水、油和氧的不活潑氣體循環/純化裝置;上述用于真空沉積鍍層的方法，其特征在于，調整上述退火爐中壓力p₁至大氣壓或更高，調整上述入口側不活潑氣體置換室中壓力p₂至大氣壓或更高，調整上述出口側不活潑氣體置換室中壓力p₃至大氣壓或更高，調整p₁-p₂的值為0mm水柱或更高，調整上述入口側不活潑氣體置換室中氫的濃度為2.0%或更低。

3、一種用于真空沉積鍍層的裝置，其特征在于包括：設在真空沉積鍍層前面的入口側真空密封裝置：設在上述入口側真空密封裝置與一退火爐之間的入口側不活潑氣體置換室;設在上述真空沉積鍍層室后面的出口側真空密封裝置;設在上述出口側真空密封裝置與大氣之間的出口側不活潑氣體置換室;用于使不活潑氣體從上述兩個真空密封裝置的真空室循環到上述兩個真空密封裝置的大氣壓力室、及用于從上述不活潑氣體中分離出水、油和氧的不活潑氣體循環/純化裝置;設在上述退火爐上的一壓力表;設在上述入口側不活潑氣體置換室上的一壓力表，一控制閥，一自動閥，一氫濃度檢測器及一排氣閥;設在上述出口側不活潑氣體置換室上的一壓力表及一自動閥;設在上述兩個真空密封裝置的大氣壓力室上、用于緊急情況而連接到不活潑氣體罐的一自動閥。