[其他]四氯化硅氫化新工藝無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 85107465 | 申請日： | 1985-10-12 |
| 公開（公告）號： | CN85107465A | 公開（公告）日： | 1987-04-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 沈祖祥;王景華 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京有色冶金設(shè)計研究總院;天津大沽化工廠 |
| 主分類號： | C01B33/08 | 分類號： | C01B33/08 |
| 代理公司： | 北京市第十專利代理事務(wù)所 | 代理人： | 張道智 |
| 地址： | 北京市復(fù)*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 氯化 氫化 新工藝 | ||
【權(quán)利要求書】：
1、一種將氣體SiCl4與氫氣混合后，通過含有一定比例觸媒的硅粉層進行氫化反應(yīng)而生成SiHCl3的方法，其特征在于所選用的觸媒為粉末狀鎳觸媒，該觸媒一次加入反應(yīng)器中，經(jīng)活化處理，氫化反應(yīng)可連續(xù)進行，反應(yīng)溫度為400～500℃、壓力10～20kg/cm2。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸媒，其特征在于首先要按與硅粉之比為2～4%的量混合，在430℃的氫氣氛中進行4小時的活化處理。
3、根據(jù)權(quán)利要求1所述生產(chǎn)SiHCl3的方法，其特征在于H2與SiCl4的克分子比為1～4∶1。
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