[其他]鋯石的處理無效
| 申請號: | 85105931 | 申請日: | 1985-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN85105931A | 公開(公告)日: | 1987-01-14 |
| 發明(設計)人: | 彼得·華萊士·科爾德雷;亨·范·鈕英;伯恩哈德·愛恩斯坦·里徹特大維·帕里斯 | 申請(專利權)人: | 帝國化學公司澳大利亞有限公司 |
| 主分類號: | C01G25/02 | 分類號: | C01G25/02 |
| 代理公司: | 上海專利事務所 | 代理人: | 吳淑芳 |
| 地址: | 澳大利亞維多利亞*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理 | ||
1、一種處理鋯石的方法,包括將平均線度在50微米與100微米之間的鋯石顆粒通過一個反應器,并加熱顆粒到高于二氧化硅熔點而低于二氧化鋯溶點的溫度,在那里,顆粒通過反應器成為離散的微粒,而它們在反應器里停留的時間小于10秒鐘。
2、按權項1的方法,其中,鋯石顆粒的平均線度在70微米和350微米之間。
3、按權項1的方法,其中,鋯石顆粒的平均線度在100微米和250微米之間。
4、按權項2或3的方法,其中,溫度在2100℃和2400℃之間。
5、按權項4的方法,其中,溫度在2200℃和2300℃之間。
6、按權項1-5所包括的任何一種方法,其中,反應器是一個高溫流體壁反應器。
7、按權項1-6所包括的任何一種方法,其中,停留時間在0.5秒到5秒之間。
8、按權項7的方法,其中,停留時間在0.5秒和2.5秒之間。
9、離解的鋯石顆粒由置于所包含的大部份是二氧化硅的玻璃質基體里的致密的二氧化鋯晶粒群組成,其中,離解的鋯石顆粒的平均大小是在62微米到1240微米的范圍里,而那時至少有90%的二氧化鋯致密的晶粒群最大線度低于0.5微米。
10、按照權項9的離解的鋯石顆粒,其中,顆粒的平均大小在85微米到475微米的范圍里。
11、按照權項9的離解的鋯石顆粒,其中,顆粒的平均大小在124微米到310微米的范圍里。
12、按照權項9-11中所包含的任何一種離解的鋯石顆粒,其中的二氧化鋯致密的晶粒群的最大線度低于0.2微米。
13、一種通過瀝濾權項12的離解的鋯石顆粒而除去大部份二氧化鋯來制造二氧化硅微粒的方法。
14、一種按權項12的方法,其中,離解的鋯石顆粒是用濃硫酸瀝濾的。
15、多孔二氧化硅微粒由權項13或14的方法制成。
16、一種大體上如參照實例所描述的,按權項1、9、13或15中任何一項的產品和方法。
17、一種按權項9-12所包含的任何一項的產品,其中,二氧化鋯晶粒的平均大小小于0.1微米。
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