[其他]一種蒸發液體用的容器的程序控制方法

無效

• 申請號: 85105730
• 申請日: 1985-07-27
• 公開（公告）號: CN85105730A
• 公開（公告）日: 1987-01-28
• 發明（設計）人: 千種豪彥;橋本仁;河村恒德;福島一憲;黑川清海;宮崎正勝
• 申請（專利權）人: 橫河電機株式會社
• 主分類號: C13G1/06
• 分類號: C13G1/06
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利代理部
• 代理人: 王彥斌

本發明涉及到編制在一種容器的自動沸騰裝置中斷續地控制糖膏的稠度的程序的一種方法。

一種由圖1中實例所示的真空沸騰裝置包括-側壁平行的容器1，該容器具有一排管式加熱區2，用以沸騰的溶液F（例如糖漿）通過-溶液控制閥3輸送到容器1的底部。加熱蒸氣S通過-控制閥4輸送到加熱區2由汽化作用來加熱和濃縮該溶液，直到濃縮作用能使結晶產生為止就不再輸送溶液了。然后由送料器5通過一閥6添加一種添加劑以形成適當的核狀晶粒。為避免這種核狀晶粒粘結在一起和形成不希望形成的核狀晶粒（假晶粒），可以在監視著該容器的內部情況的同時，在容器中補充水或者該溶液，這樣溶液的濃縮和晶體的增長就可以是連續的了。如果晶體生長到某種程度，假晶粒就不大可能會形成了，這是由于晶體在一單位體積的糖膏（一種溶液和晶體的混合物）中占據了一定體積并且彼此相對緊密地排列著的緣故。溶液進一步濃縮以便于晶體生成。如果容器中的溶液體積添加到一定水平，且當獲得了予先確定的晶體尺寸，糖膏7就會通過排放閥8排出。進而該糖膏由-離心分離器分離成晶體和溶液，該溶液則被重新循環沸騰。為了在沸騰過程中適當地控制糖膏的稠度，可以通過水控閥9或溶液控制閥3給容器1補充水W或溶液F。還可以通過觀察窗10觀察容器1的內部情況。蒸氣由真空泵13從容器1中抽出，送入冷凝器11。該真空泵經過閥12連接到冷凝器11上，冷凝器11由通過閥14提供的冷卻水W進行冷卻。

雖然人們已提出各種各樣的方法來控制該容器，但是迄今常見的還是按照一定程序使用斷續沸騰的方法來增加糖膏的稠度并且由此實現穩定的工作過程。這些已公布在日本公開的專利申請第41248/1977號中。

一表示糖膏稠度的信號e_m由一稠度表15，如流變儀，傳送給一個程序控制系統16的控制部分161。控制系統16還包括：一程序調節器162，它用于向控制部分161送入一稠度給定值e_s;一根據控制部分161的輸出量來打開或關閉溶液控制閥3或水控閥9的閥動器163。

一用于確定容器中糖膏7的液面的液位計、一用于保持容器中適當真空度的壓力控制裝置等等，雖然在圖1中沒有表明，但是也是需要的。

圖7表明了該沸騰過程的傳統的程序控制方法，（A）部分表示了被測值e_m和晶粒生長過程中一特定區域的稠度給定值e_s，在該晶粒生長過程中溶液處于沸騰狀態。（B）部分表示了溶液控制閥3的工作過程。

在t₁時刻被測值e_m已增加到給定值e_s的水平m₁，此時補充溶液以稀釋糖膏的稠度。下一個給定值e_s的水平m₂比水平m₁高△m，在t₂時刻被測值e_m已增加到水平m₂，此時再次補充溶液，同樣情況在t₃、t₄……時刻依次重復。連接e_m的峰值獲得的一條虛線C確定了稠度程序控制的理想極線曲線。如果糖膏的稠度按照曲線C來控制，就會用最短的時間來完成一個工作過程，同時保證高質量的晶體。

然而，只有在各個參數（這些參數包括容器中蒸氣量、真空度、溶液的純度）保持在適當水平時，才能維持這一理想曲線C。例如，如果容器中蒸氣量S或其真空度變化很大的話，就很難保持任何理想的控制方式。

例如，如果蒸氣量在t₄時刻以后不正常地減少了，那么稠度測量值e_m就會花很長時間才能達到給定值m₅;如果繼續使用同一控制方式的話，稠度值就變成了e_m′。連接e_m′的峰值得到的曲線C′的斜率就比曲線C的斜率低而且從此大大地偏離下去了。在這些情況下如果沸騰繼續下去的話，完成一個工作過程就會花很長的時間，同時也很難獲得質量優良的晶體，因為有可能形成假晶粒。

如果蒸氣量在t₄時刻以后不正常地增加了，那么就會發生與上面所述相反的現象。稠度值變為e_m″，連接e_m″的峰值所得的曲線C″的斜率就會比曲線C的斜率高，而且同樣從此大大地偏離下去了。這將不正常地加快完成一個工作過程，其結果是產生出包括大量假晶粒的次品。