[其他]靜電集塵除塵器

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 85105111
• 申請日: 1985-07-04
• 公開（公告）號: CN85105111A
• 公開（公告）日: 1986-12-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 羅爾夫·蓋爾哈爾;沃爾夫甘奇·哈特曼
• 申請（專利權(quán)）人: 金屬股份有限公司
• 主分類號: B03C3/06
• 分類號: B03C3/06;B03C3/76
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利代理部
• 代理人: 吳大建,全菁

本發(fā)明有關(guān)一種靜電集塵除塵器，它可以在流量達(dá)每小時25000標(biāo)準(zhǔn)立方米的煙道氣流中進(jìn)行除塵，使凈化后煙道氣的含塵量低于每標(biāo)準(zhǔn)立方米50毫克，該除塵器包括：配有電暈和集塵電極的復(fù)合收集場，用于清掃電極的裝置以及在上述流場中選擇性地改變流程的設(shè)備。

在一些小型的發(fā)電廠中，有時因為防護(hù)要求的規(guī)程較嚴(yán)格，需要后續(xù)安裝一臺除塵器。這方面典型的是使用袋濾器。但是因為袋濾器會引起過高的壓力降和需要較高的維修費用，所以不宜作為后續(xù)設(shè)備進(jìn)行安裝。另一方面，如果采用具有水平氣流道和熟知的平板式集塵電極的普通靜電除塵器，來處理流量高達(dá)每小時25000標(biāo)準(zhǔn)立方米的水平廢氣流，那么保證凈化后氣體含塵量低于每標(biāo)準(zhǔn)立方米50毫克，則除塵器的外殼尺寸會太大。由于空間的限制，實際上無法將其作為后續(xù)設(shè)備安裝。因為在除塵器中氣體流速低于每秒1米是不合適的，所以除塵器的外殼會很長而流通面積則較小，這樣，由于有效體積與外表面積的比值不合適，必然導(dǎo)致外殼費用不成比例的增加。由于這一原因，在上述條件下若使用水平流除塵器，會使設(shè)備費用不成比例的過高。這樣便降低了由于該除塵器產(chǎn)生的壓力降小而得到的益處。

本發(fā)明的目的是提供一個在上述的應(yīng)用范圍內(nèi)耗資較低的靜電除塵器。在壓力降和維修費用方面，該除塵器將優(yōu)于袋濾器。并且在外型結(jié)構(gòu)上又可希望克服用于水平氣流的平板式除塵器的缺點。此外，這種新除塵器是一個結(jié)構(gòu)整體，適于作為小型電廠或同類工廠的后續(xù)裝置。

采用上面最開始所描述的靜電集塵除塵器，便可以實現(xiàn)這一目的。新除塵器的特點是，它將四個設(shè)計大體相同的電場置于同一外殼內(nèi)，這個外殼的截面近似為一個正方形，每個電場均配有用于垂直氣流的管狀集塵電極，在各電場之間還留有溢流間隙（overflow????space），其特點又在于，借助于改變流程的設(shè)備，當(dāng)電場3B或3A在清理時，可分別選擇地將電場聯(lián)成氣流通道1-2-3A或1-2-3B，其特點還在于這樣在電場1、2和3A、3B之間，至少可備有一個大型通道，該通道便于容納可在其中工作的輔助設(shè)備。

本發(fā)明的其它特點將在從屬權(quán)項2至7中進(jìn)行描述。

進(jìn)一步的細(xì)節(jié)和優(yōu)點將參考圖1至圖3的實施例而加以詳細(xì)說明。

圖1是除塵器的主視投影圖。

圖2是除塵器上部的投影簡圖。

圖3是除塵器下部的投影簡圖。

如圖1所示，外殼2的截面近似為一個正方形。雖然圖中所示的外殼是由四個支撐柱3支撐，但作為一個整體結(jié)構(gòu)的除塵器，考慮場地條件，自然可以用不同的方法安裝。外殼2內(nèi)包括有四個基本相同的氣體流程區(qū)。在外殼2的上面，可以看到用于支撐四個關(guān)聯(lián)的電暈放電系統(tǒng)的絕緣支點4。在外殼2下面，可看到關(guān)聯(lián)的集灰箱5。外殼2的頂部裝有一個輸入管，在其底部裝有一個排出管7。大通道8和9置于各氣體流程區(qū)之間。它們均適于容納可在其中工作的輔助設(shè)備。

如實施例所示，從進(jìn)氣管6進(jìn)入的氣體在第一流程區(qū)是從頂部流到底部。在第二流程區(qū)是從底部流到頂部。然后再從二個第三流程區(qū)之一的頂部流到底部。這兩個第三流程區(qū)交替變化地流過氣體和清掃。

參考圖2和圖3，下面更詳細(xì)地描述一下氣體交替變化地流過上述流程的過程。在這兩個圖中，用于限定Z3B流程區(qū)的外殼2的四壁都被省略掉。圖2是一透視圖，圖中由于頂部結(jié)構(gòu)被移去，從上面可看到除塵器。圖3是在外殼與集灰箱之間的分割面下面的所有部件都被移開之后，從下面看到的除塵器內(nèi)部的視圖。流程區(qū)Z1被外殼限定住兩邊，另外兩邊由壁10和14限定。壁10和壁14在頂部起著將其它流程區(qū)氣密封的作用。在圖3的下面部分，壁10的終端稍高于分割面。這樣在流程Z1和Z2之間便有一個溢流通道，氣體在流程區(qū)Z2中便可以從底部流向頂部。

在圖3中，壁14分為壁15和壁16向下延伸，它們在流程Z3B，大通道8和9及排放管18b之間起著氣密封作用。

流程區(qū)Z3A和Z3B的外邊被外殼的各壁限定。在內(nèi)部被延伸至上述流程區(qū)之間的壁12所限定。它們的上面部分則由通道8的側(cè)壁19和20限定。很明顯，側(cè)壁19和20沒有延伸到頂平面，而只延伸到通道8的頂界面。所以溢流間隙11a和11b被限定在通道8和頂蓋之間，并被擋板13或同類部件把它們相互氣密封住。從圖2中還可以看到，擋板處于平行于溢流間隙11a和11b縱向的位置。所以氣體可以從流程區(qū)Z2流向流程區(qū)Z3B或Z3A。