[其他]輻照顯示薄膜劑量計及其制法

無效

• 申請號: 85104437
• 申請日: 1985-06-12
• 公開（公告）號: CN85104437B
• 公開（公告）日: 1987-11-25
• 發明（設計）人: 王艷喬;周小民;唐掌雄;張恭明
• 申請（專利權）人: 中國科學院化學研究所;中國農業科學院原子能利用研究所北京市輻射中心
• 主分類號: G01T1/04
• 分類號: G01T1/04
• 代理公司: 中國科學院專利事務所
• 代理人: 黃永奎

1、一種屬于核輻射領域輻射加工技術中，⁶⁰Coγ-射線輻射劑量監測和顯示用的信息記錄介質一輻照顯示薄膜劑量計，其特征在于它由聚酯片基、碘化亞銅導電層以及含氯量為55～60%的偏二氯乙烯-丙烯酸甲酯共聚物和五甲氧基紅制成的敏感乳劑層以及聚乙烯醇保護膜所組成。

2、按照權利要求1所述的輻照顯示薄膜劑量計，其特征在于，敏感乳劑層還可由偏二氯乙烯-丙烯酸甲酯和熱敏綠、熱敏金紅所組成。

3、一種用于制造權利要求1所述的輻照顯示薄膜劑量計的方法，其特征在于先將聚酯片基用蒸餾水清洗干凈，然后將聚酯片基置于真空鍍膜機中進行連續鍍膜，所采用的材料為電解銅，鍍膜時真空室的真空度要高于10⁵mmHg，使片基上蒸鍍一層厚度為100～300的金屬銅，然后將其置于2%碘的苯溶液中，制得透明的碘化亞銅導電層，再在導電層上涂布由含氯量為55～60%的偏二氯乙烯-丙烯酸甲酯共聚物和五甲氧基紅組成的敏感乳劑層，涂層厚度約為10μm，進行真空干燥處理，最后涂上1～2μm厚的聚乙烯醇保護膜。

4、一種用于制造權利要求2所述的輻照顯示薄膜劑量計的方法，其特征在于先將聚酯片基用蒸餾水清洗干凈，然后將聚酯片基置于真空鍍膜機中進行連續鍍膜，所采用的材料為電解銅，鍍膜時真空室的真空度高于10^-5mmHg，使片基上蒸鍍一層厚度為100～300的金屬銅，然后將其置于2%碘的苯溶液中，制得透明的碘化亞銅導電層，再在導電層上涂布由含氯量為55～60%的偏二氯乙烯-丙烯酸甲酯共聚物和熱敏綠、熱敏金紅組成的敏感乳劑層，涂層厚度約為10μm，進行真空干燥處理，最后涂上1～2μm厚的聚乙烯醇保護膜。

5、按照權利要求3所述的輻照顯示薄膜劑量計的制法，其特征在于在敏感層中加入為樹脂量3%的苯酚添加劑作為穩定劑。

6、按照權利要求3、4所述的輻照顯示薄膜劑量計的制法，其特征在于15μm以上厚度的涂層較難控制其均勻性，需采用雙面涂布技術。