[其他]分子篩組合物無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 85103259 | 申請(qǐng)日： | 1985-04-27 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN85103259A | 公開（公告）日： | 1986-12-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 布倫特;馬庫(kù)斯;梅西納;佩頓;威爾遜;弗拉尼金 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 聯(lián)合碳化公司 |
| 主分類號(hào)： | B01J27/14 | 分類號(hào)： | B01J27/14;B01J31/02;B01D15/00;C01B15/16;C10G |
| 代理公司： | 中國(guó)專利代理有限公司 | 代理人： | 巫肖南,李雒英 |
| 地址： | 美國(guó)*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 分子篩 組合 | ||
1、具有三維微孔MO2、AlO2和PO2四面體單元的骨架結(jié)構(gòu)的結(jié)晶分子篩，其以無(wú)水物為基的組成的化學(xué)經(jīng)勢(shì)式表示為：
mR：(MxAlyPz)O2
式中“R”表示至少一種在結(jié)晶體內(nèi)孔系統(tǒng)的有機(jī)模板劑；“m”表示為每克分子的(MxAlyPz)O2中“R”的克分子數(shù)；其值為零至0.3；“M”代表至少為可以構(gòu)成四面體氧化物單元骨架結(jié)構(gòu)的兩個(gè)元素，且包括至少?gòu)挠缮椤⑩敗⑴稹t、鎵、鍺、鋰和釩所組成的一個(gè)組中選出的一個(gè)元素及至少?gòu)挠赦挕㈣F、鎂、錳、鈦和鋅組成的組中選出的一個(gè)元素；“x”、“y”和“z”分別代表“M”、鋁和磷的克分子分?jǐn)?shù)，并在圖1中由A、B、C、D和E各點(diǎn)所確定的五邊形組份區(qū)之內(nèi)。
2、權(quán)利要求1的結(jié)晶分子篩，其中“x”、“y”和“z”是在圖2中由a、b、c、d、e和f所確定的六邊形組份區(qū)之內(nèi)。
3、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表A中。
4、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表B中。
5、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表C中。
6、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表D中。
7、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表E中。
8、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表F中。
9、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表G中。
10、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表H中。
11、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表J中。
12、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表K中。
13、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表L中。
14、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表M中。
15、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表N中。
16、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表O中。
17、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表P中。
18、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表Q中。
19、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表R中。
20、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表S中。
21、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表T中。
22、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表U中。
23、權(quán)利要求1和2的結(jié)晶分子篩，其特性X光粉末衍射譜圖，含有至少的d-間距，列于表V中。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于聯(lián)合碳化公司，未經(jīng)聯(lián)合碳化公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/85103259/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
