[其他]一種用于還原氧化物料的方法和裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 85103258 | 申請(qǐng)日: | 1985-04-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN85103258A | 公開(公告)日: | 1986-10-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 桑頓;馬西森;哈馬爾斯各格 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | SKF鋼鐵工程公司 |
| 主分類號(hào): | C10J3/16 | 分類號(hào): | C10J3/16;H05H1/02 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理有限公司 | 代理人: | 巫肖南,李雒英 |
| 地址: | 瑞典*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 還原 氧化 物料 方法 裝置 | ||
1、一種用于還原氧化物料的方法,包括如下步驟:
a)從含碳的或含烴的原料中產(chǎn)生主要含一氧化碳和氫氣的還原氣,其中所說(shuō)的原料同一種氧化劑和任選的一種造渣劑一起被加入到氣化區(qū)或氣化室,而同時(shí)至少用一臺(tái)等離子體發(fā)生器供給熱量。
b)使這樣制得的還原氣體達(dá)到一個(gè)適宜后續(xù)還原工藝的溫度。而后,所說(shuō)的氣體被加入一個(gè)容納有待還原氧化物料的豎爐中,所說(shuō)的氣體以逆流流向所說(shuō)的待還原的物料;
c)從還原氣中基本上除去水和塵狀顆粒,所說(shuō)的氣體在還原了氧化物料之后就含有了氧化組份,例如二氧化碳、水以及塵狀顆粒,而它的還原能力同時(shí)被部份消耗掉,而后,此部分還原氣的主要部份返回到工藝去;
d)為了實(shí)現(xiàn)總氣流的壓力調(diào)節(jié),至少有一小部份所說(shuō)的準(zhǔn)備在工藝中重新使用的部份消耗(還原能力)的氣體從系統(tǒng)中排出。
e)為了調(diào)節(jié)最終還原氣中的H2/CO的比率,至少使一小部份準(zhǔn)備在工藝中重新使用的部份消耗(還原能力)氣流通過(guò)一個(gè)CO2洗滌器。
2、根據(jù)權(quán)利要求1的一種方法,其中所說(shuō)的為壓力調(diào)節(jié)而排出的氣流,被燃燒掉或用作其它目的。
3、根據(jù)權(quán)利要求1或2的一種方法,其中所說(shuō)的在氣體離開還原步驟后,被排出的氣流已經(jīng)除去了水蒸汽和塵狀顆粒。
4、根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)要求的一種方法,其中所說(shuō)的用于氣體發(fā)生的氧化劑是由氧和/或水和/或循環(huán)氣所組成,全部地或部分地通過(guò)等離子體發(fā)生器加入氣化區(qū)。
5、根據(jù)權(quán)利要求4的一種方法,其中所說(shuō)的經(jīng)過(guò)等離子體發(fā)生器加入的氧化劑,在進(jìn)入等離子體發(fā)生器前,進(jìn)行了預(yù)熱。
6、根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)要求的一種方法,其中所說(shuō)的用來(lái)發(fā)生還原氣的含碳的和/或含烴的原料,為粉狀和/或液狀和/或塊狀原料。
7、根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項(xiàng)要求的一種方法,其中所說(shuō)的氣化區(qū)是在裝填有固體塊狀含碳原料的豎爐的下部產(chǎn)生。
8、根據(jù)權(quán)利要求7的一種方法,其中所說(shuō)的焦炭被用作豎爐的含碳填充物。
9、根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任一項(xiàng)要求的一種方法,其中所說(shuō)的水或部分失去還原能力的還原氣的一部分引入到裝有塊狀還原原料的豎爐,在豎爐的上部和氣化區(qū)保持一個(gè)適當(dāng)距離,以利用豎爐中填充物的熱量,以便使水轉(zhuǎn)化成氫氣和一氧化碳,使二氧化碳轉(zhuǎn)化成一氧化碳。
10、根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任一項(xiàng)要求的一種方法,其中所說(shuō)的粉狀含碳原料和/或造渣劑,任選地同脫硫劑一起,在等離子體發(fā)生器之前,借助水或水蒸汽,或由從還原爐排出的部分失去還原能力的還原氣的一部分組成的載氣,或氧氣,或空氣直接噴入系統(tǒng)。
11、根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任一項(xiàng)要求的一種方法,其中所說(shuō)的用于發(fā)生還原氣所需的載碳體,在等離子體發(fā)生器前,直接加入氣化區(qū)。
12、根據(jù)權(quán)利要求1至11中的任一項(xiàng)要求的一種方法,其中所說(shuō)的用于發(fā)生還原氣的任選地附加的氧化劑,和任選的造渣劑,和/或脫硫劑,在等離子體發(fā)生器之前加入氣化區(qū)。
13、根據(jù)權(quán)利要求1至12中的任一項(xiàng)要求的一種方法,其中所說(shuō)的含碳的塊狀原料和適宜的脫硫劑混合物,用作豎爐中氣化區(qū)之后的填充物。
14、根據(jù)權(quán)利要求1至13中的任一項(xiàng)要求的一種方法,其中所說(shuō)的任何硫雜質(zhì),在還原氣加入還原豎爐之前,在氣化區(qū)中被除去。
15、根據(jù)權(quán)利要求1至14中的任一項(xiàng)要求的一種方法,其中所說(shuō)的新發(fā)生的還原氣的溫度為1000-1500℃。
16、根據(jù)權(quán)利要求1至15中的任一項(xiàng)要求的一個(gè)種方法,其中所說(shuō)的發(fā)生的還原氣在加入還豎爐之前的溫度被調(diào)節(jié)到700-1000℃之間,最好是825℃。
17、根據(jù)權(quán)利要求16的一種方法,其中所說(shuō)的離開氣體發(fā)生器的熱還原氣的溫度,在脫硫之后,可以用如下的方法調(diào)節(jié):
a).通過(guò)與從還原爐排出的一定量的部分失去還原能力的還原氣混合,和/或
b)通過(guò)進(jìn)行冷卻,和/或
c)通過(guò)加入一定量的水和/或水蒸汽
這樣,氣體的最終溫度就在700-1000℃之間。
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