[其他]五元和六元分子篩的合成物

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 85103203
• 申請日: 1985-04-25
• 公開（公告）號: CN85103203A
• 公開（公告）日: 1986-12-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 布倫特;馬庫斯;弗拉尼金
• 申請（專利權(quán)）人: 聯(lián)合碳化公司
• 主分類號: B01J27/14
• 分類號: B01J27/14;B01J31/02;C01B15/16;B01D15/00;C10G
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 羅宏,劉元金

1.結(jié)晶分子篩有MO₂、AlO₂、PO₂和SiO₂四面體氧化物單元的三維微孔骨架結(jié)構(gòu)。它們有分子式mR：(M_wAl_xP_ySi_z)O₂表示的干基經(jīng)驗(yàn)化學(xué)組成。其中，“R”表示在晶內(nèi)孔系中存在的至少一種有機(jī)模板劑；“m”表示每一克分子(M_wAl_xP_ySi_z)O₂存在的“R”的克分子數(shù)，其值從0-0.3左右；“M”表示選自砷、鈹、硼、鉻、鈷、鎵、鍺、鐵、鋰、鎂、錳、鈦、釩和鋅的至少兩種元素，“W”、“X”、“y”和“z”(其中“w”是單個克分子分?jǐn)?shù)“t”、“u”和“v”的總和)分別表示作為四面體氧化物存在的元素“M”、鋁、磷和硅的克分子分?jǐn)?shù)；上述克分子分?jǐn)?shù)在圖1中點(diǎn)A、B、C、D和E確定的五邊形組成區(qū)內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利1，該結(jié)晶分子篩中“w”、“x”、“y”和“z”在圖2中點(diǎn)a、b、o、d、e和f確定的六邊形組成區(qū)內(nèi)。

3.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩具有至少含表A所示面間距(d)的特征X射線粉末衍射圖。

4.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩具有至少含表B所示面間距(d)的特征X射線粉末衍射圖。

5.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩具有至少含表C所示面間距(d)的特征X射線粉末衍射圖。

6.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩具有至少含表D所示面間距(d)的特征X射線粉末衍射圖。

7.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩具有至少含表E所示面間距(d)的特征X射線粉末衍射圖。

8.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩具有至少含表F所示面間距(d)的特征X射線粉末衍射圖。

9.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩具有至少含表G所示面間距(d)的特征X射線粉末衍射圖。

10.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩具有至少含表H所示面間距(d)的特征X射線粉末衍射圖。

11.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩具有至少含表J所示面間距(d)的特征X射線粉末衍射圖。

12.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩具有至少含表K所示面間距(d)的特征X射線粉末衍射圖。

13.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩具有至少含表L所示面間距(d)的特征X射線粉末衍射圖。

14.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩具有至少含表M所示面間距(d)的特征X射線粉末衍射圖。

15.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩具有至少含表N所示面間距(d)的特征X射線粉末衍射圖。

16.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩，其中“M”選自鎂、錳、鈦、釩、鋅、鈷、鐵、鈹。

17.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩，其中“M”有兩種元素。

18.權(quán)利17中的結(jié)晶分子篩，其中“M”是鈷和錳。

19.權(quán)利1或2中的結(jié)晶分子篩，其中“M”有三種元素。

20.權(quán)利19中的結(jié)晶分子篩，其中“M”是鈷、錳和鎂。

21.制備具有三維骨架結(jié)構(gòu)的，權(quán)利1中的結(jié)晶分子篩的過程。上述過程包括在有效的溫度和時間下，提供按下列氧化物克分子比表示的反應(yīng)混合物組分：

aR：(M_wAl_xP_ySi_z)：bH₂O其中，“R”是一種有機(jī)模板劑；“a”是“R”的數(shù)量，它可能是零或有效值大于零到6左右；“b”為0-500左右；“M”表示至少兩種選自砷、鈹、硼、鉻、鈷、鎵、鍺、鐵、鋰、鎂、錳、鈦、釩和鋅的元素；“w”、“x”、“y”和“z”分別表示在(M_wAl_xP_ySi_z)O₂組分中元素“M”、鋁、磷和硅的克分子分?jǐn)?shù)，每一元素、鋁、磷和硅的克分子分?jǐn)?shù)其值至少為0.01。由此制備了權(quán)利1的分子篩。