[其他]6,6-二溴青霉烷酸1,1-二氧化物的制造方法無效
| 申請號: | 85101193 | 申請日: | 1985-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN85101193A | 公開(公告)日: | 1986-10-08 |
| 發明(設計)人: | 卡普·杰格迪什·錢德;法賽爾·赫爾曼·皮特 | 申請(專利權)人: | 吉斯特·布羅卡德斯 |
| 主分類號: | C07D499/00 | 分類號: | C07D499/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人: | 羅英銘,劉元金 |
| 地址: | 荷蘭代爾夫特·馬2*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 青霉 二氧化物 制造 方法 | ||
1、用6-β-氨基青霉烷酸1,1-二氧化物與亞硝基化試劑在有一種無機酸或有機強酸以及溴存在下所進行的反應來制造6,6-二溴青霉烷酸1,1-二氧化物的工藝方法,其特征在于,反應混合物中有醇存在。
2、權利要求1所述的工藝方法,其特征在于,所用的醇為具有1-4個碳原子的鏈烷醇或鏈烷二醇,以甲醇為佳。
3、權利要求1至2所述的工藝方法,其特征在于,甲醇的量為1-10當量,以2-6當量為佳,4當量更佳。
4、權利要求1或2所述的工藝方法,其特征在于,所用的亞硝基化試劑是一種堿金屬亞硝酸鹽,以亞硝酸鈉為佳。
5、權利要求1或2所述的工藝方法,其特征在于,所用的亞硝基化試劑是一種烷基亞硝酸酯。
6、權利要求1或2所述的工藝方法,其特征在于,所用的無機酸為氫溴酸。
7、權利要求1或2所述的工藝方法,其特征在于,反應是在一種與水不可混溶的溶劑中進行的,該溶劑以二氯甲烷為佳。
8、權利要求1或2所述的工藝方法,其特征在于,反應是在-20℃與30℃之間的溫度下進行的,以-10℃與15℃之間為佳。
9、按權利要求1至8所述工藝方法之一制造的6,6-二溴青霉烷酸1,1-二氧化物。
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C07D 雜環化合物
C07D499-00 雜環化合物,含有4-硫雜-1-氮雜雙環[3.2.0]庚烷環系,即含有下式環系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;這類環系進一步稠合,例如與含氧、含氮或含硫雜環2,3-稠合
C07D499-04 .制備
C07D499-21 .有氮原子直接連在位置6和3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基或氰基,直接連在位置2
C07D499-86 .只有1個除氮原子外的原子直接連在位置6,3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基或氰基,直接連在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3連有除僅兩個甲基外的取代基,并有3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基或氰基,直接連在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之間有雙鍵并有3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基和氰基,直接連在位置2的化合物





