[實用新型]一種板式PECVD鍍膜設備的真空腔室

有效

• 申請號: 202320714977.4
• 申請日: 2023-04-03
• 公開（公告）號: CN219260193U
• 公開（公告）日: 2023-06-27
• 發明（設計）人: 張煌軍;趙鵬;楊川;冉祖輝;劉彩鳳;謝宏飛;韓永清;張志強;趙強
• 申請（專利權）人: 英利能源發展（保定）有限公司;英利能源發展有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50;C23C16/458
• 代理公司: 河北國維致遠知識產權代理有限公司 13137
• 代理人: 任青

本實用新型屬于真空鍍膜技術領域，具體公開了一種板式PECVD鍍膜設備的真空腔室。包括腔室本體、設在所述腔室本體內滾輪機構和設在所述滾輪機構上的傳送板，還包括升降機構和支撐板；其中，所述升降機構設置在所述真空腔體的底部；所述支撐板設置在所述升降機構上，所述滾輪機構可拆卸地設置在所述支撐板上。本實用新型通過滾輪機構的粗調整和升降機構的精細調整，可快速調整傳送板與設置其上部的沉積裝置之間的距離，便于鍍膜工藝參數調整，改善了工藝調整方面的局限性，降低了生產成本。

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜技術領域，具體涉及一種板式PECVD鍍膜設備的真空腔室。

背景技術

真空鍍膜技術廣泛應用于光伏、半導體、電池等多個領域，發揮著重要的作用。發明人在生產操作過程中發現，現有板式PECVD鍍膜設備中，進行工藝調整時，只能通過工藝氣體流量、微波功率、工藝腔室、工藝壓力及鍍膜時間五個參數進行調整。由于所采用的滾輪傳動系統固定在真空腔室內的底部，傳送載體與設置在其上部的沉積裝置之間的距離是固定的，如需要調整待傳送載體與沉積裝置之間的距離則比較困難，且成本較高。

實用新型內容

鑒于此，本實用新型提供一種板式PECVD鍍膜設備的真空腔室，以解決現有技術中存在的在現有板式PECVD鍍膜設備中調整待傳送載體與沉積裝置之間的距離比較困難且成本較高的技術問題，能夠快速調整傳送板與設置其上部的沉積裝置之間的距離，便于鍍膜工藝參數調整，改善了工藝調整方面的局限性，降低了生產成本。

為達到上述目的，本實用新型采用了如下的技術方案：

一種板式PECVD鍍膜設備的真空腔室，包括腔室本體、設在所述腔室本體內滾輪機構和設在所述滾輪機構上的傳送板，還包括升降機構和支撐板；

其中，所述升降機構設置在所述真空腔體的底部；所述支撐板設置在所述升降機構上，所述滾輪機構可拆卸地設置在所述支撐板上。

結合上述技術方案，在一種可能的實現方式中，所述升降機構為螺紋式升降機構，包括若干螺桿，所述腔室本體的底部設置有若干螺孔，與所述螺桿螺紋連接；所述螺桿穿過所述螺孔與所述支撐板接觸或轉動連接，以使所述支撐板在所述螺桿的帶動下做升降運動。

結合上述技術方案，在一種可能的實現方式中，所述螺孔和所述螺桿之間通過密封結構進行密封。

結合上述技術方案，在一種可能的實現方式中，所述螺桿上設置有緊固件，用以對所述螺桿的位置進行固定。

結合上述技術方案，在一種可能的實現方式中，所述緊固件包括緊固螺母，所述緊固螺母位于所述腔室本體外部且與所述螺桿螺紋配合，所述緊固螺母朝向所述腔室本體的一側設有梯形或錐形的凹槽，所述密封結構包括密封墊，所述密封墊的高度大于所述凹槽的深度，且一端與所述凹槽配合，以在旋緊所述緊固螺母時將密封墊擠壓在所述螺孔和所述螺桿之間。

結合上述技術方案，在一種可能的實現方式中，還包括位于腔室本體外的驅動機構，所述驅動機構與所述升降機構連接，以向所述升降機構輸出動力，進而驅動所述支撐板進行升降運動。

結合上述技術方案，在一種可能的實現方式中，所述滾輪機構包括安裝座和多組不同外徑的導輪，所述安裝座固設在所述支撐板上，所述導輪與所述安裝座可拆卸連接。

結合上述技術方案，在一種可能的實現方式中，所述導輪中心設有通孔，所述安裝座設有與所述通孔配合的定位銷，所述導輪與所述安裝座通過所述定位銷與所述通孔的配合形成可拆卸的轉動連接結構。

結合上述技術方案，在一種可能的實現方式中，多個所述導輪的內徑范圍為5～10cm，外徑范圍為20～35cm。

結合上述技術方案，在一種可能的實現方式中，所述腔室本體還包括腔室槽體和腔室上蓋，所述腔室槽體或所述腔室上蓋上設有加熱板、沉積裝置、進風口和出風口。