[實用新型]一種雙通道輸出鍍率偵測裝置

有效

• 申請號: 202320201354.7
• 申請日: 2023-02-13
• 公開（公告）號: CN219470182U
• 公開（公告）日: 2023-08-04
• 發明（設計）人: 鄭國清;張麒麟;林澤;吳晟遠
• 申請（專利權）人: 福建華佳彩有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;G01B17/02;C23C14/24
• 代理公司: 福州市京華專利代理事務所(普通合伙) 35212
• 代理人: 范小清

本實用新型提供了一種雙通道輸出鍍率偵測裝置，包括有輸出通道載盤、電極載盤和晶振片載盤，輸出通道載盤固定在電機的外殼上，電極載盤和晶振片載盤由電機軸帶動旋轉，且晶振片載盤設置在電極載盤遠離輸出通道載盤的一側；輸出通道載盤連接有電源模塊，晶振片載盤以電機軸為中心，環形陣列設置有復數個安裝孔，每一安裝孔內設置有一顆晶振片，晶振片通過電極載盤與電源模塊導通，輸出通道載盤連接有用于遮蓋電極載盤和晶振片載盤的罩殼，罩殼開設有能同時露出兩顆晶振片的腰型孔。

技術領域

本實用新型涉及掩膜板清洗技術領域，特別指一種雙通道輸出鍍率偵測裝置。

背景技術

OLED，即有機發光二極管(organiclight-emittingdiode)是繼LCD后新一代的顯示器，其制程工藝主要在真空環境下利用蒸發源將有機材料加熱后蒸發，蒸發的材料再沉積在TFT基板上，形成電子注入、電子傳輸、有機發光、空穴傳輸、空穴注入、陰極金屬等OLED器件的各膜層。在蒸鍍過程中，膜厚控制系統通過實時檢測晶振片振動頻率的變化來實時偵測材料的蒸發速率，以控制各膜層的厚度與鍍膜均勻性。

實際生產過程中，特定位置的鍍率偵測裝置只有一片晶振片接通電源模塊，當此晶振片振動頻率下降到某一值時，其偵測出來的鍍率不準確，需切換其他晶振片偵測，切換過程中，材料雖仍在蒸發，但膜厚控制系統無法偵測到鍍率，故腔體暫停蒸鍍，而且，有些有機材料附著性不好，需在晶振片上附著一定膜厚后才可準確偵測鍍率，等系統可準確偵測鍍率后才可生產，既影響生產節拍又造成有機材料的浪費，增加生產成本。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題，在于提供一種雙通道輸出鍍率偵測裝置，減少有機材料的浪費，提高生產效率，提升產能，減少生產成本。

本實用新型是這樣實現的：本實用新型提供了一種雙通道輸出鍍率偵測裝置，安裝在電機軸上，所述偵測裝置包括有輸出通道載盤、電極載盤和晶振片載盤，所述輸出通道載盤固定在電機的外殼上，所述電極載盤和晶振片載盤由電機軸帶動旋轉，且所述晶振片載盤設置在電極載盤遠離輸出通道載盤的一側；

所述輸出通道載盤連接有電源模塊，所述晶振片載盤以電機軸為中心，環形陣列設置有復數個安裝孔，每一所述安裝孔內設置有一顆用于偵測鍍率的晶振片，所述晶振片通過電極載盤與電源模塊導通，所述輸出通道載盤連接有用于遮蓋電極載盤和晶振片載盤的罩殼，所述罩殼開設有能同時露出兩顆晶振片的腰型孔。

進一步的，所述電極載盤包括有電極盤體，所述電極盤體的一側安裝有復數個三爪，所述三爪的數量與晶振片的數量一一對應，且每一所述三爪均與對應的晶振片相貼合，所述電極盤體的另一側安裝有復數個電極，所述電極的數量與三爪的數量一一對應，每一所述電極與對應的一個三爪電性連接。

進一步的，所述輸出通道載盤包括有輸出通道盤體和設置在輸出通道盤體上的第一金屬接觸片和第二金屬接觸片，所述第一金屬接觸片和第二金屬接觸片分別與電源模塊連接，所述電極的一端為圓弧面，所述電極的另一端為平面，圓弧面朝外的所述電極與第一金屬接觸片相接觸，圓弧面朝內的所述電極與第二金屬接觸片相接觸。

進一步的，相鄰兩所述電極的圓弧面朝向相反。

進一步的，所述第一金屬接觸片和第二金屬接觸片為圓弧型，且所述第一金屬接觸片和第二金屬接觸片的弧長與腰型孔相匹配，所述腰型孔位于第一金屬接觸片和第二金屬接觸片之間。

進一步的，所述第一金屬接觸片設置在第二金屬接觸片遠離電機軸的一側，且所述第一金屬接觸片和第二金屬接觸片留有使電極穿過的通道。

進一步的，在所述罩殼和晶振片載盤之間還設置有防著板，所述防著板與電機的輸出軸連接，所述防著板開設有與晶振片相匹配的開孔，有機材料通過開孔附著于晶振片上。

進一步的，所述電極載盤、晶振片載盤和防著板用平頭螺絲連接成一體后通過連接螺栓固定在電機軸上。