[實用新型]一種高溫冷卻循環(huán)水處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202320117711.1 | 申請日: | 2023-02-06 |
| 公開(公告)號: | CN219156725U | 公開(公告)日: | 2023-06-09 |
| 發(fā)明(設計)人: | 胡義軍;高垚;唐建國 | 申請(專利權)人: | 西純環(huán)保科技(上海)有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/00 | 分類號: | C02F9/00;C02F1/50;C02F5/08 |
| 代理公司: | 上海智力專利商標事務所(普通合伙) 31105 | 代理人: | 周濤 |
| 地址: | 201318 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高溫 冷卻 循環(huán) 水處理 裝置 | ||
1.一種高溫冷卻循環(huán)水處理裝置,其特征在于,包括從上至下依次連通設置的殺菌劑擾流混合室、緩蝕劑擾流混合室、活性劑擾流混合室、加強混合區(qū)域;所述殺菌劑擾流混合室的頂部設有進水口,所述加強混合區(qū)域的下端一側設有出水口;所述殺菌劑擾流混合室的側面設有殺菌劑添加口,所述緩蝕劑擾流混合室的側面設有緩蝕劑添加口,所述活性劑擾流混合室的側面設有活性劑添加口;所述加強混合區(qū)域內(nèi)填充有顆粒填充物。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種高溫冷卻循環(huán)水處理裝置,其特征在于,所述殺菌劑擾流混合室、緩蝕劑擾流混合室、活性劑擾流混合室內(nèi)分別填充有鮑爾環(huán)填料層。
3.根據(jù)權利要求2所述的一種高溫冷卻循環(huán)水處理裝置,其特征在于,所述殺菌劑添加口連接有用以向殺菌劑添加口交替沖擊投加殺菌劑的殺菌劑添加泵。
4.根據(jù)權利要求2所述的一種高溫冷卻循環(huán)水處理裝置,其特征在于,所述緩蝕劑添加口連接有用以向緩蝕劑添加口沖擊式投加緩蝕劑的緩蝕劑添加泵。
5.根據(jù)權利要求2所述的一種高溫冷卻循環(huán)水處理裝置,其特征在于,所述活性劑添加口連接有用以向活性劑添加口連續(xù)投加活性劑的活性劑添加泵。
6.根據(jù)權利要求1所述的一種高溫冷卻循環(huán)水處理裝置,其特征在于,所述出水口還連接有循環(huán)水管,所述循環(huán)水管連接有循環(huán)泵,所述循環(huán)水管還連接有換熱器。
7.根據(jù)權利要求1所述的一種高溫冷卻循環(huán)水處理裝置,其特征在于,所述殺菌劑添加口、緩蝕劑添加口、活性劑添加口分別延伸至殺菌劑擾流混合室、緩蝕劑擾流混合室、活性劑擾流混合室內(nèi)部并設有向上的出藥口。
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