[實用新型]一種全透明遺址文化層展示保護裝置

有效

• 申請號: 202320116437.6
• 申請日: 2023-02-06
• 公開（公告）號: CN219249709U
• 公開（公告）日: 2023-06-27
• 發明（設計）人: 唐曉武;向青青;費敏亮;孫國平;李柯毅;林維康;王天琦
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: A47F3/00
• 分類號: A47F3/00;E02D3/10;E02D19/18;A47F7/00;A47F11/00
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 林超

本實用新型公開了一種全透明遺址文化層展示保護裝置。儲土機構的下部和止水帷幕的下部均埋設在遺址文化層土體中，儲土機構和止水帷幕之間固定連接，土柱放置在儲土機構中且土柱下端與遺址文化層土體上表面連接成一體式結構，水位監測系統設置在儲土機構內部，供水系統和水位監測系統均與噴灑件連接，H型鋼框架的封閉端通過矩體外殼與鋁合金框架的封閉端固定連接，頂部鋼化玻璃設置在鋁合金框架封閉端的內側壁中，方法包括開挖土體、組裝儲土機構、通過水位監測系統調控展示土柱的地下水位。本實用新型控制了遺址文化層土柱內的地下水位，避免了土柱開裂及坍塌，裝置結構穩定及安全性高，操作簡單。

技術領域

本實用新型屬于土遺址預防性保護領域的一種土層展示保護裝置，具體是涉及了一種全透明遺址文化層展示保護裝置。

背景技術

土遺址是我國文化遺產的重要組成部分，是在古代漫長歲月中沉淀出具有特定歷史時期民族文化的藝術瑰寶，屬于巖土質不可移動類文物，具有極高的歷史、科學、藝術、文化和社會價值。由于土遺址文化層土體的物理性質和化學性質決定保護工作較為困難，尤其是潮濕環境土遺址受到基坑內地下水季節性波動等自然因素的影響，遺址文化層易產生干裂和分化等病害，時常發生大面積坍塌，在開挖時會對考古工作人員的人身安全造成隱患。因此，為出土的遺址文化層設置合理的展示裝置既預防一系列病害的發生，也滿足保護及展示需求。

在土遺址后天主動性保護方法方面，國內外眾多學者采用加固劑來改良遺址土性質，一些市面上的主流加固劑有機硅、丙烯酸樹脂、高分子有機物及納米與生物材料等現代材料，但是仍存在不同程度的耐候性差、微生物滋生及文物相容性較差等缺陷，尤其是有機硅加固過的文物表面甚至出現比沒保護時更為嚴重的保護性破壞。因此在潮濕環境中，多數加固劑的修復效果難以得到充分發揮，“修舊如舊”的后天加固手段存在較大的難度。因此，從病害的源頭將潮濕環境下的地下水位進行有效控制，從而避免地下水位下降等引起一系列的病害，成為了土遺址預防性保護的一大措施。

在遺址文化層展示方面，目前較多土遺址在露天進行展示，能夠向人直觀地展示遺址文化層剖面，但由于原位土體的脆弱性，極易受風蝕、雨蝕，地下水位變化等自然環境的破壞，而且人為接觸就會造成遺址文化層不可逆的損壞。當下全國各地開挖后的土遺址眾多但因尚未形成較為完善的預防性保護展示方式，仍有部分土遺址被直接暴露于極端的環境下而遭受病害的不間斷侵蝕，因此，設置的展示方式主要解決的是隔絕外部環境保護土遺址本體和供參觀的需求。遺址文化層展示裝置方面，目前采用單側設置鋼化玻璃來避免人為破壞，但無法完全避免自然環境的破壞，仍存在地下水位下降導致遺址文化層開裂和坍塌等問題，展示需求難以被較好滿足，無法全方位直觀展示。因此，現有技術缺少一種能夠適用于全透明遺址文化層展示裝置及使用方法，并應用于文化遺產保護領域。

實用新型內容

針對現有土遺址保護和展示技術中所存在的缺陷，本實用新型旨在提供了一種全透明遺址文化層展示保護裝置。該裝置控制了遺址文化層土柱內的地下水位，維持了遺址文化層的原狀土柱，裝置結構穩定和安全性高，避免了自然及人為等外界因素的影響，全方位展示遺址文化層，具有較好的工程適用性及推廣意義。

為實現上述目的，本實用新型采取的技術方案如下：

包括下端開口的儲土機構、止水帷幕、供水系統、噴灑件和水位監測系統；儲土機構的下部和止水帷幕的下部均埋設在遺址文化層土體中，儲土機構和止水帷幕之間固定連接，土柱放置在儲土機構中且土柱的下端與遺址文化層土體的上表面連接成一體式結構，供水系統位于儲土機構和止水帷幕之間，供水系統埋設在遺址文化層土體中，水位監測系統設置在儲土機構內部，噴灑件連接在儲土機構的頂部，供水系統和水位監測系統均與噴灑件連接。