[發明專利]一種玻璃的激光雕刻方法、裝置、電子設備和存儲介質有效
| 申請號: | 202310917400.8 | 申請日: | 2023-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN116618849B | 公開(公告)日: | 2023-09-22 |
| 發明(設計)人: | 佘丁順;曾繁仰;王尉 | 申請(專利權)人: | 深圳愛司科技有限公司;中國地質大學(北京);中國地質大學(北京)鄭州研究院 |
| 主分類號: | B23K26/362 | 分類號: | B23K26/362;B23K26/03;B23K26/70;B23K103/00 |
| 代理公司: | 深圳市朝聞專利代理事務所(普通合伙) 44454 | 代理人: | 黎路 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍華區民治街道上*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 玻璃 激光雕刻 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
1.一種激光雕刻方法,其特征在于,包括:
設置激光雕刻機,所述激光雕刻機包括激光發射裝置和拍攝裝置;
將目標雕刻物放置于激光雕刻機中;
向所述激光雕刻機中輸入激光雕刻數據,啟動所述激光雕刻機,所述激光雕刻數據中包括M條路徑、路徑的雕刻寬度、N個檢測點、N個模型深度值和N個模型厚度值,雕刻寬度為激光的直徑,N個檢測點位于M條路徑上,模型深度值為3D雕刻模型在檢測點上的預設雕刻深度,模型厚度值為3D雕刻模型在檢測點上的預設剩余厚度,M和N均為大于1的整數;
控制所述激光發射裝置按照M條路徑對所述目標雕刻物進行激光雕刻;
當所述激光發射裝置到達檢測點時,控制所述拍攝裝置對所述目標雕刻物進行圖像拍攝,得到雕刻深度圖像;
根據所述雕刻深度圖像并結合所述雕刻寬度、所述模型深度值和所述模型厚度值對當前檢測點的雕刻深度進行計算,包括:
根據雕刻寬度對所述雕刻深度圖像進行特征提取,生成激光特征;
根據模型深度值和模型厚度值對所述激光特征進行雕刻厚度概率判定和雕刻深度概率判定,生成深度厚度判定結果。
2.根據權利要求1所述的激光雕刻方法,其特征在于,所述根據雕刻寬度對所述雕刻深度圖像進行特征提取,生成激光特征,包括:
根據雕刻寬度選取卷積核的個數并確定卷積核大小,生成卷積核組,每一個卷積核的大小均不相同;
通過所述卷積核組對所述雕刻深度圖像進行多重特征提取,生成各個卷積核對應的特征數據;
根據雕刻寬度生成各個卷積核的融合系數;
通過所述融合系數將各個卷積核對應的特征數據進行特征融合,生成激光特征;
或/和,所述根據模型深度值和模型厚度值對所述激光特征進行雕刻厚度概率判定和雕刻深度概率判定,生成深度厚度判定結果,包括:
對所述激光特征進行殘差提取處理,生成第一殘差;
對所述第一殘差進行殘差提取處理,生成第二殘差;
對所述第二殘差進行殘差提取處理,生成第三殘差;
根據模型深度值和模型雕刻厚度值生成殘差融合系數;
根據所述殘差融合系數對所述第一殘差、第二殘差和第三殘差融合,生成目標殘差;
使用所述目標殘差生成所述雕刻深度圖像的深度厚度概率數據,將所述深度厚度概率數據作為深度厚度判定結果,所述深度厚度概率數據包括至少3組深度和厚度的概率值。
3.根據權利要求2所述的激光雕刻方法,其特征在于,在所述根據所述雕刻深度圖像并結合所述雕刻寬度、所述模型深度值和所述模型厚度值對當前檢測點的雕刻深度進行計算之后,所述激光雕刻方法還包括:
根據所述深度厚度判定結果對兩個檢測點之間的路徑進行更新。
4.根據權利要求3所述的激光雕刻方法,其特征在于,所述根據所述深度厚度判定結果對兩個檢測點之間的路徑進行更新,包括:
獲取所述深度厚度概率數據中模型深度值和模型厚度值對應的第一概率值;
判斷所述第一概率值是否大于預設閾值;
若否,則獲取所述深度厚度概率數據中概率值最大的深度值和厚度值作為實時深度值和實時厚度值;
根據所述實時深度值和所述實時厚度值計算兩個檢測點之間的往返雕刻路徑和往返雕刻時間;
控制所述激光發射裝置根據所述往返雕刻路徑和所述往返雕刻時間對目標雕刻物進行激光雕刻。
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