[發(fā)明專利]一種PVD真空離子射流鍍膜機(jī)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202310893698.3
• 申請日: 2023-07-20
• 公開（公告）號: CN116623141B
• 公開（公告）日: 2023-10-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 秦新家;紀(jì)春霞
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇微鍍新能源科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 南通一恒專利商標(biāo)代理事務(wù)所(普通合伙) 32553
• 代理人: 梁金娟

1.一種PVD真空離子射流鍍膜機(jī)，其特征在于：PVD真空離子射流鍍膜機(jī)包括分叉進(jìn)氣裝置（1）、水冷控制裝置（2）、磁控離子射流靶頭（3）、真空室內(nèi)裝置（4）；所述分叉進(jìn)氣裝置（1）右端固定連接磁控離子射流靶頭（3）；所述分叉進(jìn)氣裝置（1）上下固定連接真空室內(nèi)裝置（4）；所述水冷控制裝置（2）右端固定連接磁控離子射流靶頭（3）；所述磁控離子射流靶頭（3）右端固定連接真空室內(nèi)裝置（4）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種PVD真空離子射流鍍膜機(jī)，其特征在于：所述分叉進(jìn)氣裝置（1）包括靶內(nèi)進(jìn)氣控制器（101）、靶內(nèi)分叉進(jìn)氣管（105）、真空室進(jìn)氣控制器（102）、真空室上進(jìn)氣管（104）、真空室下進(jìn)氣管（103）；所述靶內(nèi)進(jìn)氣控制器（101）右端固定連接靶內(nèi)分叉進(jìn)氣管（105），所述靶內(nèi)分叉進(jìn)氣管（105）右端固定連接電離束流網(wǎng)（302）；所述真空室進(jìn)氣控制器（102）上端固定連接真空室上進(jìn)氣管（104），所述真空室上進(jìn)氣管（104）右端固定連接真空室（405）上部；所述真空室進(jìn)氣控制器（102）下端固定連接真空室下進(jìn)氣管（103），所述真空室下進(jìn)氣管（103）右端固定連接真空室（405）下部；說述靶內(nèi)分叉進(jìn)氣管（105）采用均勻布局的一分二，二分四，四分八的樹狀分叉結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種一種PVD真空離子射流鍍膜機(jī)，其特征在于：所述水冷控制裝置（2）包括冷水機(jī)（201）、水冷控制器（202）、靶頭直冷管道（203）、水溫傳感器（204）、水流傳感器（205）；所述冷水機(jī)（201）右端固定連接水冷控制器（202）；所述水冷控制器（202）右端固定連接靶頭直冷管道（203）下端；所述靶頭直冷管道（203）中端穿過并固定連接磁鐵組（303），所述靶頭直冷管道（203）中端穿過并固定連接濺射口（305）；所述靶頭直冷管道（203）上端固定連接水溫傳感器（204），所述水溫傳感器（204）

左端固定連接水流傳感器（205），所述水溫傳感器（204）和水流傳感器（205）與水冷控制器（202）之間有傳感控制線固定連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種一種PVD真空離子射流鍍膜機(jī)，其特征在于：所述磁控離子射流靶頭（3）包括電離區(qū)（301）、電離束流網(wǎng)（302）、磁鐵組（303）、離子磁控區(qū)（304）、濺射口（305）、鋁合金散熱底座（306）；所述電離區(qū)（301）固定連接電離束流網(wǎng)（302）；所述電離束流網(wǎng)（302）左端固定連接靶內(nèi)分叉進(jìn)氣管（105）；所述電離束流網(wǎng)（302）右端固定連接離子磁控區(qū)（304）；所述離子磁控區(qū)（304）內(nèi)固定連接磁鐵組（303），所述離子磁控區(qū)（304）右端固定連接濺射口（305）；所述磁控離子射流靶頭（3）整體金屬結(jié)構(gòu)左端固定連接鋁合金散熱底座（306）；所述磁控離子射流靶頭（3）右端固定連接真空室（405）。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種一種PVD真空離子射流鍍膜機(jī)，其特征在于：所述磁控離子射流靶頭（3）右端固定連接真空室（405）；所述真空室（405）下端固定連接真空泵（406）；所述真空室（405）內(nèi)左側(cè)固定連接靶材陰極基板（402）；所述真空室（405）中心固定連接工件基體基板（404）；所述真空室（405）中心位置設(shè)有觀察口（403）為透明玻璃材質(zhì)。