[發(fā)明專利]一種自適應(yīng)吸附軌跡支撐系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202310682707.4
• 申請日: 2023-06-09
• 公開（公告）號: CN116658517A
• 公開（公告）日: 2023-08-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉艷強(qiáng);馮文淇;張德遠(yuǎn);朱明瑞;張成昊
• 申請（專利權(quán)）人: 北京航空航天大學(xué)
• 主分類號: F16C29/00
• 分類號: F16C29/00;F16C29/02
• 代理公司: 北京高沃律師事務(wù)所 11569
• 代理人: 王芳

1.一種自適應(yīng)吸附軌跡支撐系統(tǒng)，其特征在于：包括支撐架、吸盤和導(dǎo)軌，所述支撐架為U型支撐架且開口朝下設(shè)置，所述吸盤可拆卸連接于所述支撐架內(nèi)部，所述吸盤吸附后的下端面與所述支撐架的下端口平齊，所述支撐架的上表面上可拆卸連接有所述導(dǎo)軌，所述支撐架和所述導(dǎo)軌均設(shè)置有若干段且首尾順次可拆卸連接，若干段所述支撐架的下端口能夠與支撐面接觸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自適應(yīng)吸附軌跡支撐系統(tǒng)，其特征在于：所述導(dǎo)軌的底面與所述支撐架之間設(shè)置有楔形支架，所述導(dǎo)軌的頂面和/或所述支撐架的頂面設(shè)置有符合設(shè)計工藝要求的曲率。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自適應(yīng)吸附軌跡支撐系統(tǒng)，其特征在于：所述支撐架和所述導(dǎo)軌的數(shù)量相同且一一對應(yīng)設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自適應(yīng)吸附軌跡支撐系統(tǒng)，其特征在于：所述支撐架內(nèi)可拆卸連接有吸盤架，所述吸盤通過螺栓連接于所述吸盤架上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的自適應(yīng)吸附軌跡支撐系統(tǒng)，其特征在于：所述吸盤架為U型架，所述吸盤架與所述支撐架的側(cè)面通過螺栓連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的自適應(yīng)吸附軌跡支撐系統(tǒng)，其特征在于：所述吸盤架與所述支撐架的下端面平齊且與所述支撐面的曲率相匹配，所述吸盤架的頂面與所述支撐面的曲率相匹配。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的自適應(yīng)吸附軌跡支撐系統(tǒng)，其特征在于：所述吸盤架與所述支撐架的側(cè)面對應(yīng)設(shè)置有至少一個U型開口。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自適應(yīng)吸附軌跡支撐系統(tǒng)，其特征在于：所述支撐架的頂面設(shè)置有鏤空和X型加強(qiáng)筋。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自適應(yīng)吸附軌跡支撐系統(tǒng)，其特征在于：每個所述支撐架內(nèi)部設(shè)置有兩列所述吸盤，所述吸盤交錯連通形成兩組吸盤，每組吸盤分別連通有一個負(fù)壓吸附機(jī)構(gòu)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的自適應(yīng)吸附軌跡支撐系統(tǒng)，其特征在于：所述負(fù)壓吸附機(jī)構(gòu)包括真空發(fā)生器、真空釋放閥和壓力表，所述真空發(fā)生器通過兩條管路分別與一組所述吸盤連通，每條所述管路上均設(shè)置有所述真空釋放閥和所述壓力表。