[發明專利]一種用于人工晶體爐的氣體導流裝置

在審

• 申請號: 202310679659.3
• 申請日: 2023-06-09
• 公開（公告）號: CN116623290A
• 公開（公告）日: 2023-08-22
• 發明（設計）人: 朱振業
• 申請（專利權）人: 洛陽長纓新能源科技有限公司
• 主分類號: C30B27/02
• 分類號: C30B27/02;C30B29/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于人工晶體爐的氣體導流裝置，包括導流筒（5）和下導流環（13），其特征是：在所述導流筒（5）的上面設有向上延伸的下導流環（13），所述下導流環（13）為上端開口大下端開口小的錐形結構。

2.如權利要求1所述的用于人工晶體爐的氣體導流裝置，其特征是：所述下導流環（13）的上方設置上導流環（11），所述上導流環（11）為上端開口大下端開口小的錐形結構，上導流環（11）的上端頭連接爐蓋（4）上爐脖（10）的內壁，上導流環（11）的下端頭為懸空設置，在爐脖（10）上間隔設有復數個爐蓋進氣口（3），爐蓋進氣口（3）的出氣端對應上導流環（11）的外緣面。

3.如權利要求2所述的用于人工晶體爐的氣體導流裝置，其特征是：所述上導流環（11）下端頭的外緣面與爐脖（10）的內壁之間設置上導流環封堵板（14），通過上導流環封堵板（14）將上導流環（11）的外緣面與爐脖（10）內壁之間的空腔形成進氣腔，在進氣腔上設置復數個排氣孔（15）。

4.如權利要求3所述的用于人工晶體爐的氣體導流裝置，其特征是：所述排氣孔（15）均布在上導流環封堵板（14）。

5.如權利要求3所述的用于人工晶體爐的氣體導流裝置，其特征是：所述排氣孔（15）的截面形狀為圓形或方形或橢圓形或多邊形中的任意一種。

6.如權利要求2所述的用于人工晶體爐的氣體導流裝置，其特征是：所述上導流環（11）的下方設置中導流環（12），所述中導流環（12）為上端開口大下端開口小的錐形結構或上端開口小下端開口大的倒錐形結構或上下端開口大小一致的直桶型結構，中導流環（12）的上端頭連接爐脖（10）內壁的下端頭，中導流環（12）的下端頭懸空設置。

7.如權利要求6所述的用于人工晶體爐的氣體導流裝置，其特征是：所述中導流環（12）的下端頭延伸至下導流環（13）上端頭的開口處。

8.如權利要求6所述的用于人工晶體爐的氣體導流裝置，其特征是：所述中導流環（12）下端頭的直徑小于下導流環（13）上端頭開口的直徑。