[發(fā)明專利]一種制充氫系統(tǒng)及其控制方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202310668346.8
• 申請(qǐng)日: 2023-06-07
• 公開（公告）號(hào): CN116518288A
• 公開（公告）日: 2023-08-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 岑健;孫繼勝;馬茜;孫祥;李梭
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 永安行科技股份有限公司
• 主分類號(hào): F17C5/00
• 分類號(hào): F17C5/00;F17C13/04
• 代理公司: 上海雍灝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31368
• 代理人: 沈汶波

1.一種制充氫系統(tǒng)，其特征在于，包括：

復(fù)數(shù)個(gè)制氫裝置，放置于一容置空間內(nèi)，并制備氫氣；

充氫裝置，放置于一容置空間內(nèi)，所述充氫裝置與所述制氫裝置的出氫管路連接；

儲(chǔ)氫裝置，與所述充氫裝置連接，儲(chǔ)存由所述制氫裝置制備的氫氣；

其中

所述充氫裝置控制自身的關(guān)斷狀態(tài)，以控制任意所述制氫裝置向任意所述儲(chǔ)氫裝置充氫。

2.如權(quán)利要求1所述的制充氫系統(tǒng)，其特征在于，

所述充氫裝置包括：

閥門組件，連接于所述制氫裝置和儲(chǔ)氫裝置間；

所述閥門組件包括主閥門組及從閥門組；

所述主閥門組包括至少兩個(gè)主閥門，每一所述主閥門的一端連接至少一個(gè)制氫裝置；

所述從閥門組包括至少兩個(gè)從閥門，每一從閥門的一端連接一個(gè)主閥門，另一端連接一個(gè)儲(chǔ)氫裝置；

當(dāng)任一所述主閥門受控開啟和關(guān)閉時(shí)，與其連接的所述制氫裝置的出氫管路導(dǎo)通和關(guān)閉；當(dāng)任一所述從閥門受控開啟和關(guān)閉時(shí)，與其連接的所述儲(chǔ)氫裝置的充氫管路導(dǎo)通和關(guān)閉。

3.如權(quán)利要求2所述的制充氫系統(tǒng)，其特征在于，

所述主閥門的數(shù)量小于或等于所述從閥門的數(shù)量；

所述主閥門組與所述從閥門組串聯(lián)，使得所有所述主閥門呈并聯(lián)關(guān)系，且所有所述從閥門呈并聯(lián)關(guān)系。

4.如權(quán)利要求1所述的制充氫系統(tǒng)，其特征在于，還包括：

控制模塊，分別與所述制氫裝置、充氫裝置和儲(chǔ)氫裝置電連接，以獲取所述制氫裝置的制氫速度、所述充氫裝置的充氫速度、及所述儲(chǔ)氫裝置的當(dāng)前氫量。

5.如權(quán)利要求4所述的制充氫系統(tǒng)，其特征在于，

所述控制模塊獲取所述儲(chǔ)氫裝置的儲(chǔ)氫信息及與所述充氫裝置的連接信息；

當(dāng)與所述充氫裝置的連接信息為：與所述充氫裝置連接成功時(shí)，所述控制模塊向所述制氫裝置發(fā)送開始工作指令，以控制所述制氫裝置向所述充氫裝置輸送氫氣，及控制所述充氫裝置向所述儲(chǔ)氫裝置充入氫氣；

所述控制模塊實(shí)時(shí)獲取所述儲(chǔ)氫裝置的儲(chǔ)氫信息，當(dāng)所述儲(chǔ)氫信息顯示充滿時(shí)，向所述制氫裝置發(fā)送結(jié)束工作指令。

6.如權(quán)利要求5所述的制充氫系統(tǒng)，其特征在于，

所述控制模塊還配置為：

獲取所述儲(chǔ)氫信息中的剩余氫量；

將所述剩余氫量與預(yù)設(shè)氫量標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行比較，其中所述氫量標(biāo)準(zhǔn)包括0％～第一氫量閾值的第一氫量區(qū)間、第一氫量閾值～第二氫量閾值的第二氫量區(qū)間、第二氫量閾值～100％的第三氫量區(qū)間；

當(dāng)所述剩余氫量落入所述第一氫量區(qū)間時(shí)，所述控制模塊打開第一百分比及以上的主閥門，以及打開與所有剩余氫量落入所述第一氫量區(qū)間的儲(chǔ)氫裝置所連接的從閥門；

當(dāng)所述剩余氫量落入所述第二氫量區(qū)間時(shí)，所述控制模塊打開第二百分比及以下的主閥門，以及打開與所有剩余氫量落入所述第二氫量區(qū)間的儲(chǔ)氫裝置所連接的從閥門；

當(dāng)所述剩余氫量落入所述第三氫量區(qū)間時(shí)，所述控制模塊打開第三百分比及以下的主閥門，以及打開與所有剩余氫量落入所述第二氫量區(qū)間的儲(chǔ)氫裝置所連接的從閥門。

7.如權(quán)利要求6所述的制充氫系統(tǒng)，其特征在于，

所述控制模塊還配置為：

當(dāng)所述剩余氫量落入所述第一氫量區(qū)間的儲(chǔ)氫裝置占比超過100％減去第一百分比的比例時(shí)，所述控制模塊啟動(dòng)第一百分比及以上的制氫裝置，并切斷與所有剩余氫量未落入所述第一氫量區(qū)間的儲(chǔ)氫裝置所連接的從閥門，其中啟動(dòng)的制氫裝置的數(shù)量大于所述儲(chǔ)氫裝置的數(shù)量；

當(dāng)所述儲(chǔ)氫裝置的吸氫速度小于啟動(dòng)的制氫裝置的制氫速度時(shí)，于一預(yù)設(shè)時(shí)長內(nèi)關(guān)閉所有主閥門，或?qū)⒌谒陌俜直葐?dòng)的制氫裝置關(guān)閉。