[發(fā)明專利]一種用于芯片散熱貼的取標(biāo)頭在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202310664306.6 | 申請(qǐng)日: | 2023-06-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN116564862A | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-08-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊曙欣 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 頎中科技(蘇州)有限公司;合肥頎中科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L21/683;H01L23/367 |
| 代理公司: | 蘇州威世朋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 段友強(qiáng) |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 芯片 散熱 取標(biāo)頭 | ||
1.一種用于芯片散熱貼的取標(biāo)頭,其特征在于:包括標(biāo)頭和壓接組件;所述標(biāo)頭的底部具有吸附面;所述壓接組件具有壓接塊,所述壓接塊與所述標(biāo)頭配合并沿豎向方向活動(dòng)在收容狀態(tài)和突伸狀態(tài);
在收容狀態(tài)時(shí),所述壓接塊的底部不突伸出所述吸附面;
在突伸狀態(tài)時(shí),至少部分所述壓接塊向下突伸出所述吸附面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于芯片散熱貼的取標(biāo)頭,其特征在于:所述壓接組件還具有沿豎向方向延伸設(shè)置的滑桿,所述壓接塊固定在滑桿的底端,所述滑桿沿豎向方向滑動(dòng)設(shè)置在所述標(biāo)頭上;
所述標(biāo)頭具有本體部和自所述本體部側(cè)向伸出的支撐部,所述支撐部上設(shè)置有與所述滑桿配合的滑孔;
在外力作用下所述壓接塊朝靠近所述支撐部的方向移動(dòng)至收容狀態(tài);
在外力作用撤銷后所述壓接塊朝遠(yuǎn)離所述支撐部的方向移動(dòng)至突伸狀態(tài)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于芯片散熱貼的取標(biāo)頭,其特征在于:所述壓接組件還具有與壓接塊配合的復(fù)位件,在外力作用撤銷后在復(fù)位件的作用下所述壓接塊朝遠(yuǎn)離所述支撐部的方向移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于芯片散熱貼的取標(biāo)頭,其特征在于:所述復(fù)位件為彈簧件,所述彈簧件的一端與在所述壓接塊配合,所述彈簧件的另一端與所述支撐部配合。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于芯片散熱貼的取標(biāo)頭,其特征在于:所述彈簧件套設(shè)在所述滑桿外;所述支撐部上設(shè)置有用于定位所述彈簧件的定位孔,所述彈簧件遠(yuǎn)離所述壓接塊的一端定位在所述定位孔內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于芯片散熱貼的取標(biāo)頭,其特征在于:所述滑桿上遠(yuǎn)離所述壓接塊的一端向上貫穿所述支撐部,所述壓接組件還具有設(shè)置在所述滑桿上的限位件,所述限位件位于所述支撐部背離所述壓接塊的一側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于芯片散熱貼的取標(biāo)頭,其特征在于:所述壓接塊通過(guò)兩個(gè)所述滑桿滑動(dòng)設(shè)置在所述支撐部上,所述限位件套設(shè)在兩個(gè)所述滑桿外。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于芯片散熱貼的取標(biāo)頭,其特征在于:所述壓接塊具有壓接面和與所述壓接面相鄰的斜向過(guò)度面,在所述壓接塊處于收容狀態(tài)時(shí),所述壓接面與所述吸附面對(duì)齊;在所述壓接塊處于突伸狀態(tài)時(shí),所述壓接面與所述吸附面之間通過(guò)斜向過(guò)度面銜接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于芯片散熱貼的取標(biāo)頭,其特征在于:所述壓接面上也設(shè)置有若干真空吸附孔。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于芯片散熱貼的取標(biāo)頭,其特征在于:所述吸附面上設(shè)置有若干吸附孔。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





