[發明專利]加工裝置、移動體的制造方法及加工方法在審
| 申請號: | 202310654693.5 | 申請日: | 2017-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN116604175A | 公開(公告)日: | 2023-08-18 |
| 發明(設計)人: | 白石雅之;江上茂樹;川辺喜雄;立崎陽介;柴崎祐一 | 申請(專利權)人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | B23K26/04 | 分類號: | B23K26/04;B23K26/064;B23K26/70 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 胡林嶺 |
| 地址: | 日本東京都*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 加工 裝置 移動 制造 方法 | ||
1.一種加工裝置,包括:
光照射裝置,對物體的表面照射加工光;
樣品構造計測裝置,計測通過來自所述光照射裝置的所述加工光的照射而形成在所述物體上的構造形成區域且減小所述物體的表面的相對于流體的摩擦阻力的構造的一部分即樣品構造的特性;及
控制裝置,使用所述樣品構造計測裝置的計測結果控制照射至與所述構造形成區域不同的所述物體上的區域的所述加工光的照射狀態,其中
反復進行利用所述光照射裝置的所述構造的形成、及利用所述樣品構造計測裝置的所述樣品構造的特性的計測。
2.一種加工裝置,包括:
光照射裝置,對物體的表面照射加工光;
樣品構造計測裝置,計測通過來自所述光照射裝置的所述加工光的照射而形成在所述物體上的構造形成區域且減小所述物體的表面的相對于流體的摩擦阻力的構造的一部分即樣品構造的特性;及
控制裝置,使用所述樣品構造計測裝置的計測結果控制照射至與所述構造形成區域不同的所述物體上的區域的所述加工光的照射狀態,其中
所述樣品構造計測裝置是在所述光照射裝置在所述物體的第一區域形成所述構造的期間的至少一部分,計測所述光照射裝置在所述物體的第二區域形成的所述樣品構造的特性。
3.根據權利要求1或2所述的加工裝置,其中
所述樣品構造的特性包含所述樣品構造的有無、所述樣品構造的形狀、所述樣品構造的尺寸及構成所述樣品構造的既定構造的位置的至少一者。
4.根據權利要求1或2所述的加工裝置,進而包括:
控制裝置,基于所述樣品構造計測裝置的計測結果,輸出與所述形成的構造的特性是否良好相關的信息。
5.根據權利要求1或2所述的加工裝置,其中
所述光照射裝置基于所述樣品構造計測裝置的計測結果,對包含形成有所述樣品構造的區域的既定區域照射所述加工光。
6.根據權利要求5所述的加工裝置,其中
所述光照射裝置在所述樣品構造計測裝置的計測結果表示所述樣品構造的特性并非所期望特性的情形時,對所述既定區域照射所述加工光。
7.根據權利要求5所述的加工裝置,其中
所述光照射裝置對所述既定區域照射所述加工光,修正形成于所述既定區域的所述構造。
8.根據權利要求1或2所述的加工裝置,
通過所述加工光的照射而變更所述物體的表面的一部分的厚度,在所述物體的表面形成構造。
9.根據權利要求8所述的加工裝置,其中
所述構造是周期構造。
10.一種在流體中移動的移動體的制造方法,包含:
對物體的表面照射加工光;
通過所述加工光向所述物體的表面的照射而去除所述物體的表面的構造形成區域的一部分,在所述物體的表面形成減小所述物體的表面的相對于流體的摩擦阻力的構造;
計測通過所述加工光的照射而形成的構造的一部分即樣品構造的特性;及
使用計測的所述特性,變更照射至與所述構造形成區域不同的所述物體上的區域的所述加工光的照射狀態,且
反復進行所述構造的形成及所述特性的計測。
11.一種在流體中移動的移動體的制造方法,包含:
對物體的表面照射加工光;
通過所述加工光向所述物體的表面的照射而去除所述物體的表面的構造形成區域的一部分,在所述物體的表面形成減小所述物體的表面的相對于流體的摩擦阻力的構造;
計測通過所述加工光的照射而形成的構造的一部分即樣品構造的特性;及
使用計測的所述特性,變更照射至與所述構造形成區域不同的所述物體上的區域的所述加工光的照射狀態,其中
計測所述特性包含在形成所述構造的期間的至少一部分,計測所述特性。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社尼康,未經株式會社尼康許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202310654693.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





