[發明專利]一種天線組件解耦結構

在審

• 申請號: 202310605140.0
• 申請日: 2023-05-25
• 公開（公告）號: CN116613515A
• 公開（公告）日: 2023-08-18
• 發明（設計）人: 歲江偉;李曉瑜;朱祥維;袁雪林;李杜
• 申請（專利權）人: 中山大學
• 主分類號: H01Q1/36
• 分類號: H01Q1/36;H01Q21/00;H01Q13/10
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 姚心怡

1.一種天線組件解耦結構，其特征在于，包括：天線組件和縫隙結構；

所述天線組件，包括第一天線和第二天線；其中，所述第一天線與所述第二天線相互耦合，以形成第一微帶模式對應的耦合；

所述縫隙結構，包括在所述第一天線中引入的第一縫隙和在所述第二天線中引入的第二縫隙，用于產生第一縫隙模式，以通過所述第一縫隙模式對應的耦合與所述第一微帶模式對應的耦合之間的抵消，實現對所述天線組件的解耦；其中，所述第一縫隙模式對應的耦合是指所述第一縫隙與所述第二縫隙相互耦合，所述第一縫隙模式在遠場的電場與所述第一微帶模式在遠場的電場是正交的。

2.如權利要求1所述的一種天線組件解耦結構，其特征在于，所述第一天線和所述第二天線的排列方式，包括沿E-面排列和沿H-面排列；

其中，所述E-面排列是指所述第一天線和所述第二天線沿著電場所在的平面進行排列，所述H-面排列是指所述第一天線和所述第二天線沿著磁場所在的平面進行排列。

3.如權利要求1所述的一種天線組件解耦結構，其特征在于，所述第一天線與所述第二天線的工作頻帶相同。

4.如權利要求1所述的一種天線組件解耦結構，其特征在于，所述第一天線和所述第二天線都是微帶天線。

5.如權利要求1所述的一種天線組件解耦結構，其特征在于，還包括耦合電容結構；

所述天線組件，還包括第三天線和第四天線；其中，所述第一天線分別與所述第二天線、所述第三天線和所述第四天線相互耦合，所述第二天線分別與所述第三天線和所述第四天線相互耦合，所述第三天線與所述第四天線相互耦合，以形成第二微帶模式對應的耦合；

所述縫隙結構，還包括在所述第三天線中引入的第三縫隙和在所述第四天線中引入的第四縫隙，用于產生第二縫隙模式，以通過所述第二縫隙模式對應的耦合和所述耦合電容結構，調控所述第二微帶模式對應的耦合，實現對所述天線組件的解耦；其中，所述第二縫隙模式對應的耦合是指所述第一縫隙分別與所述第二縫隙、所述第三縫隙和所述第四縫隙相互耦合、所述第二縫隙分別與所述第三縫隙和所述第四縫隙相互耦合、所述第三縫隙與所述第四縫隙相互耦合；

所述耦合電容結構，包括第一電容結構、第二電容結構、第三電容結構和第四電容結構；其中，所述第一電容結構設置于所述第一縫隙的末端，所述第二電容結構設置于所述第二縫隙的末端，所述第三電容結構設置于所述第三縫隙的末端，所述第四電容結構設置于所述第四縫隙的末端。

6.如權利要求5所述的一種天線組件解耦結構，其特征在于，所述第一天線、所述第二天線、所述第三天線和所述第四天線的排列方式為2×2二維陣列排列。

7.如權利要求5所述的一種天線組件解耦結構，其特征在于，所述第一天線、所述第二天線、所述第三天線和所述第四天線的工作頻帶相同。

8.如權利要求5所述的一種天線組件解耦結構，其特征在于，所述第一天線、所述第二天線、所述第三天線和所述第四天線都是微帶天線。