[發明專利]處理稀疏數據的方法、裝置、計算機設備和存儲介質

在審

• 申請號: 202310591037.5
• 申請日: 2023-05-24
• 公開（公告）號: CN116310392A
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發明（設計）人: 吳青松;王穎輝;李銳;張磊
• 申請（專利權）人: 瀚博半導體（上海）有限公司
• 主分類號: G06V10/44
• 分類號: G06V10/44;G06V10/82;G06N3/08;G06N3/0464
• 代理公司: 北京市漢坤律師事務所 11602
• 代理人: 魏小薇;吳麗麗

1.一種處理稀疏數據的方法，包括：

獲取待處理的稀疏數據，其中，所述待處理的稀疏數據以第一特征圖來表示；

確定所述第一特征圖中的至少一個全零塊和至少一個非全零塊，其中，每個全零塊僅包括為零的數據，每個非全零塊至少包括非零的數據；

確定所述至少一個非全零塊中的每個非全零塊在所述第一特征圖中的第一位置；

分別對所述至少一個非全零塊執行卷積或反卷積處理，以得到相應的至少一個經處理的非全零塊；

基于所述至少一個非全零塊中的每個非全零塊在所述第一特征圖中的所述第一位置，確定所述至少一個經處理的非全零塊中的每個經處理的非全零塊在經處理的稀疏數據的第二特征圖中的第二位置，其中，所述第一位置相對于所述第一特征圖的位置關系與所述第二位置相對于所述第二特征圖的位置關系一致；以及

將所述至少一個經處理的非全零塊中的每個經處理的非全零塊在所述第二特征圖中放置于對應的所述第二位置，以確定所述經處理的稀疏數據的所述第二特征圖。

2.如權利要求1所述的方法，其中，所述確定所述第一特征圖中的至少一個全零塊和至少一個非全零塊，包括：

利用具有預定尺寸的窗口來劃分所述第一特征圖以得到所述至少一個全零塊和所述至少一個非全零塊，其中，每個全零塊的尺寸和每個非全零塊的尺寸與所述窗口的所述預定尺寸相同。

3.如權利要求1或2所述的方法，其中，所述確定所述至少一個非全零塊中的每個非全零塊在所述第一特征圖中的第一位置，包括：

針對所述至少一個非全零塊中的每個非全零塊，確定所述非全零塊中第一個元素相對于所述第一特征圖的第一坐標；以及

基于所述非全零塊的尺寸，確定所述非全零塊中最后一個元素相對于所述第一特征圖的第二坐標。

4.如權利要求1或2所述的方法，其中，所述第一特征圖具有第一尺寸，并且所述方法還包括：

基于用于執行所述卷積或反卷積處理的卷積核，確定所述第二特征圖的第二尺寸；以及

生成具有所述第二尺寸的全零矩陣。

5.如權利要求4所述的方法，其中，所述分別對所述至少一個非全零塊執行卷積或反卷積處理，以得到相應的至少一個經處理的非全零塊，包括：

響應于所述第二尺寸與所述第一尺寸不同，針對所述至少一個非全零塊中的每個非全零塊，確定所述卷積核在所述非全零塊上的施加位置。

6.如權利要求4所述的方法，其中，所述將所述至少一個經處理的非全零塊中的每個經處理的非全零塊在所述第二特征圖中放置于對應的所述第二位置，包括：

按照所述第二位置將每個經處理的非全零塊放置在所述全零矩陣中，以確定所述第二特征圖。

7.如權利要求6所述的方法，其中，所述方法還包括：

生成具有與所述第一尺寸相同的所述第二尺寸的掩碼矩陣，其中，在所述掩碼矩陣中，與所述第一特征圖中的所述非零的數據相對應的元素被置1，

其中，所述按照所述第二位置將每個經處理的非全零塊放置在所述全零矩陣中，以確定所述第二特征圖，包括：

按照所述第二位置將每個經處理的非全零塊放置在所述全零矩陣中，以生成中間處理矩陣；以及

將所述中間處理矩陣與所述掩碼矩陣做哈達瑪積，以確定所述第二特征圖。