[發明專利]一種基于共聚焦顯微鏡的量塊測量裝置及測量方法

在審

• 申請號: 202310588296.2
• 申請日: 2023-05-23
• 公開（公告）號: CN116625193A
• 公開（公告）日: 2023-08-22
• 發明（設計）人: 吳俊杰;蔡瀟雨;魏佳斯;李源;周勇;孫愷欣
• 申請（專利權）人: 上海市計量測試技術研究院;上海計測信息科技有限公司
• 主分類號: G01B5/02
• 分類號: G01B5/02
• 代理公司: 上海劍秋知識產權代理有限公司 31382
• 代理人: 袁巍

1.一種基于共聚焦顯微鏡的量塊測量裝置，其特征是，包括用于放置量塊的載物臺，載物臺的兩側分別設有一個直線運動裝置，兩個直線運動裝置上分別安裝有一個共聚焦顯微鏡，兩個共聚焦顯微鏡在直線運動裝置的驅動下相互靠近或遠離；每個直線運動裝置配置有一個用于測量直線運動裝置運動位移的激光干涉儀測距裝置；

所述共聚焦顯微鏡用于采集量塊的表面形貌數據，并將采集的數據傳輸給上位機；所述激光干涉儀測距裝置與上位機連接并向上位機反饋直線運動裝置的運動位移信號；

所述上位機用于根據量塊的表面形貌數據和直線運動裝置的位移信號計算得出量塊的尺寸參數；所述上位機還用于根據激光干涉儀測距裝置反饋的信號控制直線運動裝置的運動。

2.根據權利要求1所述的基于共聚焦顯微鏡的量塊測量裝置，其特征在于：所述激光干涉儀測距裝置包括激光干涉儀、第一反射鏡、第二反射鏡以及設置在直線運動裝置上的末端反射鏡，激光干涉儀發出的激光束依次經第一反射鏡、第二反射鏡反射至末端反射鏡，末端反射鏡再將激光束沿原路依次經第二反射鏡、第一反射鏡反射至激光干涉儀。

3.根據權利要求1所述的基于共聚焦顯微鏡的量塊測量裝置，其特征在于：所述激光干涉儀與第一反射鏡之間的激光束路徑垂直于第一反射鏡與第二反射鏡之間的激光束路徑，第二反射鏡與末端反射鏡之間的激光束路徑垂直于第一反射鏡與第二反射鏡之間的激光束路徑。

4.根據權利要求1所述的基于共聚焦顯微鏡的量塊測量裝置，其特征在于：所述激光干涉儀設在直線運動裝置的下方。

5.根據權利要求1所述的基于共聚焦顯微鏡的量塊測量裝置，其特征在于：兩個共聚焦顯微鏡及兩個直線運動裝置、兩個激光干涉儀測距裝置對稱地設置在載物臺兩側。

6.根據權利要求1所述的基于共聚焦顯微鏡的量塊測量裝置，其特征在于：兩個直線運動裝置共線設置，兩個共聚焦顯微鏡的光軸同軸設置。

7.根據權利要求1所述的基于共聚焦顯微鏡的量塊測量裝置，其特征在于：所述末端反射鏡設在直線運動裝置的尾部。