[發(fā)明專利]直寫光刻鏡頭角度的測量方法、計算設(shè)備及存儲介質(zhì)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202310564580.6
• 申請日: 2023-05-19
• 公開（公告）號: CN116300342A
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳志特;王華;黃海浩;張少勛
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東科視光學技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市華盛智薈知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44604
• 代理人: 李春燕

1.一種直寫光刻鏡頭角度的測量方法，其特征在于，包括如下步驟：

控制直寫光刻機的光刻鏡頭對沿z軸方向位于所述光刻鏡頭下方的感光標尺光刻至少兩個標定圖案，至少兩個所述標定圖案中目標特征點的分布方向與所述光刻鏡頭向曝光平臺投射的鏡頭投射區(qū)域方向一致，所述感光標尺設(shè)于所述曝光平臺并沿曝光坐標系的x軸方向或y軸方向延伸；

控制同一對位相機分別拍攝至少兩個所述標定圖案，得到至少兩個標定圖像；

根據(jù)至少兩個所述標定圖像分別確定對應(yīng)所述標定圖案中所述目標特征點在所述曝光坐標系的目標位置坐標；

根據(jù)所述目標位置坐標計算至少兩個所述目標特征相對所述曝光坐標系的分布角度，將所述分布角度作為所述鏡頭投射區(qū)域的投射角度。

2.如權(quán)利要求1所述的直寫光刻鏡頭角度的測量方法，其特征在于，所述控制直寫光刻機的光刻鏡頭對沿z軸方向位于所述光刻鏡頭下方的感光標尺光刻至少兩個標定圖案，進一步包括：

移動所述曝光平臺帶動所述感光標尺至所述光刻鏡頭下方的投射范圍內(nèi)；

控制所述光刻鏡頭向所述感光標尺光刻至少兩個所述標定圖案；

所述控制同一對位相機分別拍攝至少兩個所述標定圖案，得到至少兩個標定圖像，進一步包括：

移動所述對位相機至所述感光標尺的至少兩個所述標定圖案位于所述對位相機下方的拍攝范圍內(nèi)；

控制所述對位相機分別拍攝至少兩個所述標定圖案，得到至少兩個標定圖像。

3.如權(quán)利要求1所述的直寫光刻鏡頭角度的測量方法，其特征在于，所述根據(jù)至少兩個所述標定圖像分別確定對應(yīng)所述標定圖案中所述目標特征點在所述曝光坐標系的目標位置坐標，進一步包括：

判斷每一所述標定圖像中對應(yīng)所述標定圖案的圖案特征是否符合預(yù)設(shè)條件；

若每一所述標定圖像中對應(yīng)所述標定圖案的圖案特征符合所述預(yù)設(shè)條件，根據(jù)所述圖案特征計算每一所述標定圖案中所述目標特征點的目標位置坐標。

4.如權(quán)利要求3所述的直寫光刻鏡頭角度的測量方法，其特征在于，所有所述標定圖案均為圓形，所述根據(jù)至少兩個所述標定圖像分別確定對應(yīng)所述標定圖案中所述目標特征點在所述曝光坐標系的目標位置坐標，進一步包括：

判斷每一所述標定圖像中所述圖案特征的圓度是否符合預(yù)設(shè)圓度誤差范圍；

若每一所述標定圖像中所述圖案特征的圓度符合所述預(yù)設(shè)圓度誤差范圍，計算所述標定圖像中所述圖案特征的第一圓心位置坐標；

根據(jù)所述第一圓心位置坐標確定所述標定圖案的第二圓心位置坐標，將所述第二圓心位置坐標作為所述目標特征點的目標位置坐標。

5.如權(quán)利要求1所述的直寫光刻鏡頭角度的測量方法，其特征在于，所述標定圖案設(shè)有三個，三個所述標定圖案包括一第一標定圖案和兩個第二標定圖案，所述第一標定圖案的第一目標特征點位于所述鏡頭投射區(qū)域的中心，兩個所述第二標定圖案的第二目標特征點沿所述鏡頭投射區(qū)域方向分布于所述第一目標特征點的兩側(cè)，所述控制同一對位相機分別拍攝至少兩個所述標定圖案，得到至少兩個標定圖像，進一步包括：

控制對位相機分別拍攝所述第一標定圖案和兩個所述第二標定圖案，得到一第一標定圖像和兩個所述第二標定圖像；

所述根據(jù)至少兩個所述標定圖像分別確定對應(yīng)所述標定圖案中所述目標特征點在所述曝光坐標系的目標位置坐標，進一步包括：

提取所述第一標定圖像中對應(yīng)所述第一目標特征點的第一標記點；

根據(jù)所述第一標記點確定所述第一目標特征點的第一目標位置坐標；

提取所述第二標定圖像中對應(yīng)所述第二目標特征點的第二標記點；

根據(jù)所述第二標記點確定所述第二目標特征點的第二目標位置坐標；

所述根據(jù)所述目標位置坐標計算至少兩個所述標定圖案相對曝光坐標系的分布角度，進一步包括：

根據(jù)所述第一目標位置坐標和所述第二目標位置坐標計算兩個所述第二目標特征點相對曝光坐標系的分布角度。