[發明專利]電子調制裝置

在審

• 申請號: 202310433254.1
• 申請日: 2020-01-22
• 公開（公告）號: CN116381994A
• 公開（公告）日: 2023-07-04
• 發明（設計）人: 邱亮云;蔡宗翰
• 申請（專利權）人: 群創光電股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1343
• 分類號: G02F1/1343;G02F1/1333
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 朱方杰;駱希聰

1.一種電子調制裝置，其特征在于，包括：

一基板；

一緩沖層，設置于所述基板上，所述緩沖層包括一第一開口，所述第一開口定義所述緩沖層的一第一頂部邊緣以及一第一底部邊緣；以及

一電極，設置于所述緩沖層上，所述電極包括一第二開口，所述第二開口定義所述電極的一第二頂部邊緣以及一第二底部邊緣；

其中，在一剖面方向，所述第二底部邊緣與所述第一頂部邊緣之間有一距離，所述距離的范圍在1微米到50微米之間。

2.如權利要求1所述的電子調制裝置，其特征在于，其中所述電極具有一第一內側面，且所述第一內側面的至少一部分為不均勻。

3.如權利要求2所述的電子調制裝置，其特征在于，其中所述第一內側面的至少一部分具有彎曲形狀。

4.如權利要求2所述的電子調制裝置，其特征在于，其中所述第一內側面的至少一部分具有凹陷形狀。

5.如權利要求2所述的電子調制裝置，其特征在于，其中所述第一內側面的至少一部分具有波浪形狀。

6.如權利要求1所述的電子調制裝置，其特征在于，其中所述緩沖層具有一第二內側面，且所述第二內側面的至少一部分為不均勻。

7.如權利要求6所述的電子調制裝置，其特征在于，其中所述第二內側面的至少一部分具有彎曲形狀。

8.如權利要求6所述的電子調制裝置，其特征在于，其中所述第二內側面的至少一部分具有凹陷形狀。

9.如權利要求6所述的電子調制裝置，其特征在于，其中所述第二內側面的至少一部分具有波浪形狀。

10.如權利要求1所述的電子調制裝置，其特征在于，更包括:

一有機絕緣層，設置于所述電極上以及所述第一開口及所述第二開口內，其中，位于所述第二底部邊緣處的所述有機絕緣層的一厚度大于位于所述第一頂部邊緣處的所述有機絕緣層的一厚度。