[發(fā)明專利]一種芯片封裝體分離切割方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202310372685.1 | 申請(qǐng)日: | 2023-04-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN116344446A | 公開(公告)日: | 2023-06-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 合肥矽邁微電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/78 | 分類號(hào): | H01L21/78;H01L21/683 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 230088 安徽*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 芯片 封裝 分離 切割 方法 | ||
1.一種芯片封裝體分離切割方法,其特征在于,包括以下步驟:
開槽步驟:將封裝體的芯片面朝下放置,蝕刻封裝體遠(yuǎn)離芯片面的一面,在切割道位置均勻蝕刻出槽口;
貼膜步驟:將封裝體開槽口的一面朝下放置并貼在水平的固定膜上;
切割步驟:控制刀片的切割高度,刀片在切割道位置切割封裝體至槽口;
去膜步驟:將切割完成的產(chǎn)品脫離固定膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片封裝體分離切割方法,其特征在于,所述開槽步驟中,槽口的深度范圍為封裝體高度的0.15~0.35倍,槽口的寬度范圍為切割道寬度的0.4~1倍。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的芯片封裝體分離切割方法,其特征在于,所述切割步驟中,刀片距離固定膜的最低切割高度≦槽口深度。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的芯片封裝體分離切割方法,其特征在于,所述切割步驟中,刀片從封裝體芯片面沿著切割道垂直向下切割。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的芯片封裝體分離切割方法,其特征在于,所述去膜步驟中,還包括輔助剝離步驟和檢驗(yàn)步驟。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的芯片封裝體分離切割方法,其特征在于,所述輔助剝離步驟中,使用超聲波輔助剝料,單個(gè)產(chǎn)品在振動(dòng)下發(fā)生掉落剝料。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的芯片封裝體分離切割方法,其特征在于,所述檢驗(yàn)步驟中,檢查剝完料的固定膜完整情況和單個(gè)產(chǎn)品上的殘膠情況。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一一項(xiàng)所述的芯片封裝體分離切割方法,其特征在于,所述開槽步驟中,使用激光器進(jìn)行激光蝕刻出槽口或者濕法蝕刻出槽口。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一一項(xiàng)所述的芯片封裝體分離切割方法,其特征在于,所述開槽步驟中,使用預(yù)切刀進(jìn)行切割蝕刻出槽口,且預(yù)切刀的寬度大于刀片寬度。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





