[發明專利]提高薄膜高吸附性能的系統

在審

• 申請號: 202310364688.0
• 申請日: 2023-04-07
• 公開（公告）號: CN116580970A
• 公開（公告）日: 2023-08-11
• 發明（設計）人: 蔡學云;黃渭國;鄔立文;張殿祥
• 申請（專利權）人: 六和電子（江西）有限公司
• 主分類號: H01G4/33
• 分類號: H01G4/33;H01G13/00;H01G13/04;H01G2/12
• 代理公司: 南昌市贛昌知識產權代理事務所(普通合伙) 36140
• 代理人: 劉鴻運

1.一種提高薄膜高吸附性能的系統，包括薄膜，所述薄膜為應用于薄膜電容器使用的金屬化薄膜，是將薄膜置于含氧氣氛圍或惰性氣體氛圍存在條件下進行超高壓電離電極處理，其特征是，包括：

（1）利用導輥裝置將薄膜拉伸平整，對薄膜表面進行除雜、除塵、防水處理，為表面處理薄膜；

（2）制活化處理薄膜，將表面處理薄膜置于吸附性溶液中，在吸附性溶液中進行吸附掁蕩處理，為吸附性薄膜；

（3）將吸附性薄膜放卷置于含氧氣氛圍或惰性氣體氛圍存在條件下，采用超高壓電離裝置對位于兩導輥之間的吸附性薄膜的表面進行超高壓電離處理，電離處理薄膜；

（4）將電離處理薄膜經除靜電裝置，進行除靜電處理為除靜電薄膜，將除靜電薄膜經功能化處理、干燥，由收卷裝置收卷處理為高吸附性薄膜。

2.根據權利要求1所述提高薄膜高吸附性能的系統，其特征是控制放卷收卷速率為2-3.5?m/s。

3.根據權利要求1所述提高薄膜高吸附性能的系統，其特征是步驟2）吸附性溶液為乙醇和乙二胺的混合溶液或為乙醇和三乙烯四胺的混合溶液，控制乙醇和乙二胺或三乙烯四胺的質量比為100：3-6。

4.根據權利要求1所述提高薄膜高吸附性能的系統，其特征是控制經吸附掁蕩處理得到的吸附性薄膜其表面濕潤張力為35mN/m至60mN/m。

5.根據權利要求1所述提高薄膜高吸附性能的系統，其特征是控制高壓電離處理時電壓為30000~50000v；對吸附性薄膜的正反兩面分別或同時進行高壓電離處理。

6.根據權利要求1所述提高薄膜高吸附性能的系統，其特征是步驟2）控制吸附性溶液中進行振蕩處理時間為10-60分鐘。

7.根據權利要求1所述提高薄膜高吸附性能的系統，包括放卷裝置、收卷裝置、薄膜表面處理器、若干導輥、超高壓電離電極、冷卻系統及除靜電裝置；超高壓電離電極設于放卷裝置與收卷裝置之間，其特征是所述活化振蕩處理器和薄膜表面處理器，依次的設于高壓電離電極之前。

8.根據權利要求7所述提高薄膜高吸附性能的系統，其特征是所述導輥為絕緣導輥；所述高壓電離電極相對應或相錯位的設于吸附性薄膜的正反兩面位置。

9.根據權利要求7所述提高薄膜高吸附性能的系統，其特征是所述系統還包括冷卻系統，所述冷卻系統與高壓電離電極相對應設置。