[發明專利]一種絕緣環斜面的清洗裝置及清洗方法

在審

• 申請號: 202310343054.7
• 申請日: 2023-03-31
• 公開（公告）號: CN116274025A
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發明（設計）人: 吳撼宇;樓成;楊森;來定國;徐啟福;魏浩
• 申請（專利權）人: 西北核技術研究所
• 主分類號: B08B1/00
• 分類號: B08B1/00;B08B1/02;B08B3/08;B08B13/00
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 馮素玲

1.一種絕緣環斜面的清洗裝置，其特征在于：

包括底座(1)、旋轉模塊、清洗移動模塊以及控制模塊；

所述旋轉模塊包括固定支架(9)、旋轉盤(2)以及第一電機(3)；

所述固定支架(9)豎直固定在底座(1)上，旋轉盤(2)可沿豎直方向圓周旋轉地連接在固定支架(9)上；第一電機(3)固定在固定支架(9)上，用于驅動旋轉盤(2)圓周轉動；

所述旋轉盤(2)上圓周均布有多個固定結構(24)，用于通過固定結構(24)將待清洗絕緣環圓周固定在旋轉盤(2)上；

所述清洗移動模塊包括清洗結構(4)、第一導向結構(5)、連接結構(6)以及第二導向結構(7)；

所述第一導向結構(5)設置在底座(1)上，且可沿底座(1)上表面直線移動；

所述連接結構(6)包括支座(61)以及與支座(61)固連的導向支板(62)，導向支板(62)與支座(61)之間保持夾角；所述夾角大于0°，小于等于90°。

支座(61)固定設置在第一導向結構(5)上，并與第一導向結構(5)同步直線移動；

第二導向結構(7)設置在導向支板(62)上，且可沿導向支板(62)上表面直線移動；

所述清洗結構(4)包括刷頭(41)和驅動刷頭(41)的第二電機(42)；

所述第二電機(42)固定設置在第二導向結構(7)上，并與第二導向結構(7)同步直線移動；刷頭(41)可旋轉地連接在第二電機(42)上，用于使刷頭(41)在清洗時與待清洗絕緣環斜面接觸；

所述控制模塊分別與第一電機(3)和第二電機(42)電連接。

2.根據權利要求1所述的一種絕緣環斜面的清洗裝置，其特征在于：

所述導向支板(62)與支座(61)之間的夾角為45度。

3.根據權利要求1所述的一種絕緣環斜面的清洗裝置，其特征在于：

所述導向支板(62)與支座(61)之間的夾角可調整。

4.根據權利要求1-3任一所述的一種絕緣環斜面的清洗裝置，其特征在于：

還包括設置在固定支架(9)上的連接器(8)；

所述清洗移動模塊和旋轉盤(2)的數量均為兩個；

兩個所述旋轉盤(2)平行相對設置在固定支架(9)的兩側，并通過連接器(8)連接，使兩個旋轉盤(2)相對于連接器(8)可圓周旋轉；

兩個所述清洗移動模塊分別設置在對應旋轉盤(2)的一側，兩個所述清洗移動模塊中的刷頭(41)在清洗時分別與相應的旋轉盤(2)上固定的待清洗絕緣環斜面接觸；

所述第一電機(3)用于同時驅動兩個旋轉盤(2)圓周旋轉。

5.根據權利要求4所述的一種絕緣環斜面的清洗裝置，其特征在于：

所述旋轉盤(2)與固定支架(9)之間為可拆卸連接；

所述刷頭(41)與第二電機(42)之間為可拆卸連接。

6.根據權利要求5所述的一種絕緣環斜面的清洗裝置，其特征在于：

所述旋轉盤(2)包括第一旋轉半盤(21)、第二旋轉半盤(22)以及多個連接板(23)；

第一旋轉半盤(21)和第二旋轉半盤(22)通過多個連接板(23)連接固定。

7.根據權利要求6所述的一種絕緣環斜面的清洗裝置，其特征在于：

所述第一導向結構(5)為線性滑臺，其包括第一支撐座(51)、第一直線導軌(52)、第一滾珠絲杠(53)、第一滑動塊(54)以及第一手柄(55)；

所述第一支撐座(51)固定設置在底座(1)上表面，第一直線導軌(52)固定設置在第一支撐座(51)上；第一滑動塊(54)螺紋套設在第一滾珠絲杠(53)上；

所述第一滾珠絲杠(53)一端與第一直線導軌(52)可轉動連接，另一端與第一手柄(55)固連，用于在第一手柄(55)圓周轉動時，帶動第一滾珠絲杠(53)轉動，從而帶動第一滑動塊(54)沿第一直線導軌(52)直線移動。