[發(fā)明專利]一種基于深度學(xué)習(xí)的皮帶缺陷檢測(cè)方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202310286834.2 | 申請(qǐng)日: | 2023-03-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN115993365B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-06-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王紀(jì)強(qiáng);宋震;劉真梅;趙林;侯墨語(yǔ);李振 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 山東省科學(xué)院激光研究所;齊魯工業(yè)大學(xué)(山東省科學(xué)院) |
| 主分類號(hào): | G01N21/88 | 分類號(hào): | G01N21/88;G06T7/00;G06N3/084;G06V10/77;G06V10/82 |
| 代理公司: | 北京弘權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11363 | 代理人: | 逯長(zhǎng)明;占園 |
| 地址: | 272071 山東省濟(jì)寧市高新*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 深度 學(xué)習(xí) 皮帶 缺陷 檢測(cè) 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種基于深度學(xué)習(xí)的皮帶缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述檢測(cè)方法包括:
構(gòu)建皮帶訓(xùn)練網(wǎng)絡(luò)模型,所述構(gòu)建皮帶訓(xùn)練網(wǎng)絡(luò)模型包括隨機(jī)仿射變換特征提取處理步驟、激勵(lì)注意力機(jī)制處理步驟和小目標(biāo)檢測(cè)頭處理步驟;
訓(xùn)練所述皮帶訓(xùn)練網(wǎng)絡(luò)模型得到目標(biāo)權(quán)重文件;
獲取向所述皮帶底部發(fā)射激光時(shí),所述皮帶表面的待檢測(cè)圖像;
對(duì)所述皮帶待檢測(cè)圖片進(jìn)行解析檢測(cè)處理得到像素塊組;
比對(duì)所述像素塊組與所述目標(biāo)權(quán)重文件,得到比對(duì)結(jié)果;
判斷所述比對(duì)結(jié)果是否大于比對(duì)閾值;
若是,則生成用于關(guān)閉皮帶機(jī)的控制指令;
所述隨機(jī)仿射變換特征提取處理步驟包括:
獲取若干張皮帶缺陷圖片;
對(duì)所述皮帶缺陷圖片進(jìn)行隨機(jī)仿射變換處理得到仿射圖片;
對(duì)所述仿射圖片進(jìn)行拆分處理得到拆分圖片;
所述隨機(jī)仿射變換特征提取處理步驟之后還包括:
利用卷積對(duì)所述拆分圖片進(jìn)行通道整合處理得到擴(kuò)充圖片;
對(duì)所述擴(kuò)充圖片進(jìn)行特征提取處理得到第一特征分支,留存所述第一特征分支;
對(duì)所述第一特征分支依次進(jìn)行所述通道整合處理和所述特征提取處理得到第二特征分支,留存所述第二特征分支;
對(duì)所述第二特征分支依次進(jìn)行所述通道整合處理和所述特征提取處理得到第三特征分支,留存所述第三特征分支;
對(duì)所述第三特征分支進(jìn)行特征池化處理得到池化特征;
對(duì)所述池化特征進(jìn)行特征提取處理得到第四特征分支,留存所述第四特征分支;
所述激勵(lì)注意力機(jī)制處理步驟包括:
分別對(duì)所述第一特征分支、所述第二特征分支、所述第三特征分支和所述第四特征分支進(jìn)行全局平均池化得到第一擴(kuò)充特征;
將所述第一擴(kuò)充特征和所述第一特征分支進(jìn)行糅合處理得到所述擴(kuò)充特征;
對(duì)所述擴(kuò)充特征進(jìn)行激勵(lì)處理得到激勵(lì)特征;
利用sigmoid函數(shù)對(duì)所述激勵(lì)特征進(jìn)行歸一化處理得到特征權(quán)重;
將所述特征權(quán)重和與所述特征權(quán)重對(duì)應(yīng)的特征通道相乘得到權(quán)重特征通道;
所述小目標(biāo)檢測(cè)頭處理步驟包括:
對(duì)所述擴(kuò)充特征進(jìn)行采樣處理得到第一采樣特征;
對(duì)所述第一采樣特征進(jìn)行采樣處理得到第二采樣特征;
將所述第二采樣特征和所述第一特征分支進(jìn)行糅合處理得到第一小目標(biāo)特征;
對(duì)所述第一小目標(biāo)特征依次進(jìn)行所述通道整合處理和所述特征提取處理得到目標(biāo)小目標(biāo)特征;
利用所述sigmoid函數(shù)對(duì)所述目標(biāo)小目標(biāo)特征進(jìn)行歸一化處理得到小目標(biāo)特征權(quán)重;
將所述小目標(biāo)特征權(quán)重和與所述小目標(biāo)特征權(quán)重對(duì)應(yīng)的特征通道相乘得到小目標(biāo)權(quán)重特征通道;
對(duì)所述權(quán)重特征通道和所述小目標(biāo)權(quán)重特征通道進(jìn)行預(yù)測(cè)處理得到所述皮帶訓(xùn)練網(wǎng)絡(luò)模型;
獲取若干張皮帶缺陷圖片;
根據(jù)所述皮帶訓(xùn)練網(wǎng)絡(luò)模型對(duì)所述缺陷圖片進(jìn)行特征提取處理得到缺陷特征;
對(duì)所述缺陷特征進(jìn)行標(biāo)注處理得到缺陷標(biāo)注圖片;
根據(jù)所述皮帶缺陷圖片與所述缺陷標(biāo)注圖片之間的缺陷距離計(jì)算得出交并比;
將所述交并比代入損失函數(shù)計(jì)算得出損失值,所述損失函數(shù)包括置信度損失、分類損失和定位損失,所述損失函數(shù)公式為:
;
其中,所述obj_loss為所述置信度損失,所述cls_loss為所述分類損失,所述box_loss為所述定位損失;
根據(jù)所述損失值并利用反向傳播處理對(duì)所述缺陷標(biāo)注圖片進(jìn)行缺陷修改得到目標(biāo)缺陷標(biāo)注圖片;
根據(jù)所述皮帶缺陷圖片與所述目標(biāo)缺陷標(biāo)注圖片之間的缺陷距離計(jì)算得出目標(biāo)交并比;
將所述目標(biāo)交并比代入所述損失函數(shù)得到目標(biāo)損失值;
判斷所述目標(biāo)損失值是否小于或等于預(yù)設(shè)損失值;
若是,則對(duì)所述目標(biāo)缺陷標(biāo)注圖片進(jìn)行權(quán)重提取處理得到目標(biāo)權(quán)重文件;
若否,則繼續(xù)對(duì)所述目標(biāo)缺陷標(biāo)注圖片進(jìn)行缺陷修改直至所述目標(biāo)損失值小于或等于所述預(yù)設(shè)損失值。
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 根據(jù)用戶學(xué)習(xí)效果動(dòng)態(tài)變化下載學(xué)習(xí)數(shù)據(jù)的系統(tǒng)及方法
- 用于智能個(gè)人化學(xué)習(xí)服務(wù)的方法
- 漸進(jìn)式學(xué)習(xí)管理方法及漸進(jìn)式學(xué)習(xí)系統(tǒng)
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