[發(fā)明專利]一種礦產(chǎn)品物相檢測(cè)方法及系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202310278232.2
• 申請(qǐng)日: 2023-03-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN116559210A
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-08-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 封亞輝;查燕青;劉京偉;蔣一昕;戴東情;袁敏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南京海關(guān)工業(yè)產(chǎn)品檢測(cè)中心
• 主分類號(hào): G01N23/20
• 分類號(hào): G01N23/20;G06F16/903;G06F16/906;G06F18/24
• 代理公司: 南京九致知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32307
• 代理人: 嚴(yán)巧巧

1.一種礦產(chǎn)品物相檢測(cè)方法，其特征在于，所述方法應(yīng)用于礦產(chǎn)品物相檢測(cè)系統(tǒng)，所述系統(tǒng)與X射線衍射儀通信連接，所述方法包括：

基于目標(biāo)礦產(chǎn)品的歸屬類型與處理工藝，獲取可存性物相數(shù)據(jù)，搭建物相數(shù)據(jù)庫(kù)；

基于所述X射線衍射儀，對(duì)所述目標(biāo)礦產(chǎn)品進(jìn)行衍射分析，獲取目標(biāo)衍射圖譜；

對(duì)所述目標(biāo)衍射圖譜進(jìn)行層級(jí)剖析剝離，確定解離圖譜；

對(duì)所述X射線衍射儀進(jìn)行性能參數(shù)評(píng)估，生成衍射影響系數(shù)；

將所述解離圖譜與所述衍射影響系數(shù)輸入衍射修正模型中，輸出目標(biāo)修正圖譜；

遍歷所述物相數(shù)據(jù)庫(kù)，對(duì)所述目標(biāo)修正圖譜進(jìn)行匹配校對(duì)，生成物相歸屬體系，將所述物相歸屬體系作為所述目標(biāo)礦產(chǎn)品的物相檢測(cè)結(jié)果。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述搭建物相數(shù)據(jù)庫(kù)，包括：

基于所述歸屬類型與所述處理工藝，確定可存性元素化合物；

將所述可存性元素化合物作為索引目標(biāo)，基于大數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)獲取標(biāo)準(zhǔn)物相狀態(tài)，其中，各可存性元素化合物至少對(duì)應(yīng)一個(gè)所述標(biāo)準(zhǔn)物相狀態(tài)；

對(duì)所述標(biāo)準(zhǔn)物相狀態(tài)進(jìn)行特征標(biāo)識(shí)，生成所述物相數(shù)據(jù)庫(kù)。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述對(duì)所述X射線衍射儀進(jìn)行性能參數(shù)評(píng)估，生成衍射影響系數(shù)，包括：

基于所述X射線衍射儀，確定多維性能評(píng)估指標(biāo)，其中，所述多維性能評(píng)估指標(biāo)包括射線源穩(wěn)定度、衍射角精準(zhǔn)度、分辨率；

根據(jù)所述射線源穩(wěn)定度、所述衍射角精準(zhǔn)度與所述分辨率，確定設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)指標(biāo)參數(shù)，其中，所述設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)指標(biāo)參數(shù)為最佳運(yùn)行狀態(tài)下的指標(biāo)參數(shù)；

對(duì)所述X射線衍射儀進(jìn)行實(shí)時(shí)運(yùn)行監(jiān)測(cè)，確定設(shè)備實(shí)時(shí)指標(biāo)參數(shù)；

對(duì)所述設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)指標(biāo)參數(shù)與所述設(shè)備實(shí)時(shí)指標(biāo)參數(shù)進(jìn)行校對(duì)，確定指標(biāo)偏離值；

基于所述指標(biāo)偏離值，生成所述衍射影響系數(shù)。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述將所述解離圖譜與所述衍射影響系數(shù)輸入衍射修正模型中，之前包括：

連接物相監(jiān)管系統(tǒng)，調(diào)取歷史衍射記錄數(shù)據(jù)；

對(duì)所述歷史衍射記錄數(shù)據(jù)進(jìn)行識(shí)別評(píng)估，生成構(gòu)建樣本，其中，所述構(gòu)建樣本包括樣本圖譜、樣本衍射影響系數(shù)與樣本修正參數(shù)；

基于所述樣本圖譜、所述樣本衍射影響系數(shù)與所述修正參數(shù)，進(jìn)行神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)訓(xùn)練生成所述衍射修正模型，其中，所述衍射修正模型包括數(shù)據(jù)識(shí)別層、偏差修正層與調(diào)整輸出層。

5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述輸出目標(biāo)修正圖譜，包括：

將所述解離圖譜與所述衍射影響系數(shù)輸入所述衍射修正模型；

基于所述數(shù)據(jù)識(shí)別層與所述偏差修正層，進(jìn)行輸入數(shù)據(jù)識(shí)別匹配，確定修正參數(shù)，其中，所述修正參數(shù)包括調(diào)整方向與調(diào)整幅度；

將所述調(diào)整方向與所述調(diào)整幅度輸入所述調(diào)整輸出層中，對(duì)所述解離圖譜進(jìn)行調(diào)整修正，生成所述目標(biāo)輸入圖譜進(jìn)行模型輸出。

6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述遍歷所述物相數(shù)據(jù)庫(kù)，對(duì)所述目標(biāo)修正圖譜進(jìn)行匹配校對(duì)，生成物相歸屬體系，包括：

遍歷所述物相數(shù)據(jù)庫(kù)，對(duì)所述目標(biāo)修正圖譜進(jìn)行匹配校對(duì)，確定目標(biāo)匹配結(jié)果；

根據(jù)衍射線強(qiáng)度，確定多個(gè)物相含量；

基于所述目標(biāo)匹配結(jié)果與所述多個(gè)物相含量，生成所述物相歸屬體系，其中，所述物相歸屬體系表征為物相類目層級(jí)-同素異構(gòu)體層級(jí)-數(shù)量層級(jí)。

7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述基于衍射線強(qiáng)度，確定多個(gè)物相含量，包括：

基于所述目標(biāo)匹配結(jié)果，確定多個(gè)線吸收系數(shù)，其中，所述目標(biāo)匹配結(jié)果與所述多個(gè)線吸收系數(shù)一一對(duì)應(yīng)；

基于所述多個(gè)線吸收系數(shù)，進(jìn)行所述衍射強(qiáng)度的映射匹配，確定物相標(biāo)識(shí)衍射強(qiáng)度；

基于所述物相標(biāo)識(shí)衍射線強(qiáng)度，確定所述多個(gè)物相含量，其中，所述多個(gè)物相含量與所述物相標(biāo)識(shí)衍射強(qiáng)度成正比。

8.一種礦產(chǎn)品物相檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括：

數(shù)據(jù)獲取模塊，所述數(shù)據(jù)獲取模塊用于基于目標(biāo)礦產(chǎn)品的歸屬類型與處理工藝，獲取可存性物相數(shù)據(jù)，搭建物相數(shù)據(jù)庫(kù)；

衍射分析模塊，所述衍射分析模塊用于基于所述X射線衍射儀，對(duì)所述目標(biāo)礦產(chǎn)品進(jìn)行衍射分析，獲取目標(biāo)衍射圖譜；

層級(jí)剖析剝離模塊，所述層級(jí)剖析剝離模塊用于對(duì)所述目標(biāo)衍射圖譜進(jìn)行層級(jí)剖析剝離，確定解離圖譜；

性能參數(shù)評(píng)估模塊，所述性能參數(shù)評(píng)估模塊用于對(duì)所述X射線衍射儀進(jìn)行性能參數(shù)評(píng)估，生成衍射影響系數(shù)；

衍射修正模塊，所述衍射修正模塊用于將所述解離圖譜與所述衍射影響系數(shù)輸入衍射修正模型中，輸出目標(biāo)修正圖譜；

匹配校對(duì)模塊，所述匹配校對(duì)模塊用于遍歷所述物相數(shù)據(jù)庫(kù)，對(duì)所述目標(biāo)修正圖譜進(jìn)行匹配校對(duì)，生成物相歸屬體系，將所述物相歸屬體系作為所述目標(biāo)礦產(chǎn)品的物相檢測(cè)結(jié)果。