[發明專利]一種復合沉積MCrAlY抗氧化涂層及其制備工藝

在審

• 申請號: 202310276471.4
• 申請日: 2023-03-20
• 公開（公告）號: CN116162903A
• 公開（公告）日: 2023-05-26
• 發明（設計）人: 王啟民;彭濱;許雨翔
• 申請（專利權）人: 廣東工業大學
• 主分類號: C23C14/16
• 分類號: C23C14/16;C23C14/02;C23C14/22
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 聶志偉

1.一種復合沉積MCrAlY抗氧化涂層的制備工藝，其特征在于：所述制備工藝包括

基體預處理；

基體離子預刻蝕處理；

制備復合沉積MCrAlY抗氧化涂層，M元素為Ni或Co或NiCo；

其中，在基體表面通過陰極弧蒸發和磁控濺射復合沉積制備復合沉積MCrAlY抗氧化涂層，通入惰性氣體控制氣壓為0.2至1.0Pa，偏壓為-50至-120V，裝載基體的支架轉速為1至5rpm，沉積溫度為250至450℃，控制電弧靶材表面平均電流密度為8至16mA/cm²，同時控制磁控平面靶材表面平均功率密度為10至70W/cm²，沉積時間為60至500min。

2.根據權利要求1所述的復合沉積MCrAlY抗氧化涂層的制備工藝，其特征在于：電弧靶采用MCrAlY靶，按重量百分比計，靶材化學成分為Cr：16至28％，Al：7至13％，Y：0.1至1％，余量為Ni或Co或NiCo。

3.根據權利要求1所述的復合沉積MCrAlY抗氧化涂層的制備工藝，其特征在于：磁控平面靶采用MCrAlY靶，按重量百分比計，靶材化學成分為Cr：16至28％，Al：7至13％，Y：0.1至1％，余量為Ni或Co或NiCo。

4.根據權利要求1所述的復合沉積MCrAlY抗氧化涂層的制備工藝，其特征在于：基體預處理的過程中，對基體進行拋光處理，然后依次使用金屬清潔劑和無水乙醇超聲波清洗30至60min，再用氮氣或惰性氣體吹干除塵后裝入真空鍍膜機的腔室。

5.根據權利要求1所述的復合沉積MCrAlY抗氧化涂層的制備工藝，其特征在于：基體離子預刻蝕處理的過程中，將基體裝入真空鍍膜機的腔室后加熱升溫至400至600℃，并對腔室抽真空，真空度為1.0至6.0×10^-3Pa，抽真空過程溫度降為250至450℃并保持恒溫，通入惰性氣體調節腔室氣壓為0.5至1Pa，利用離子源離化惰性氣體對基體進行刻蝕，離子源功率為1至4kW，偏壓為-800至-1000V，刻蝕時間為20至30min。

6.一種復合沉積MCrAlY抗氧化涂層，其特征在于：所述復合沉積MCrAlY抗氧化涂層采用如權利要求1至5任一項所述的制備工藝制備。