[發明專利]單旋轉橢偏系統的校準方法、系統、設備及存儲介質

在審

• 申請號: 202310264605.0
• 申請日: 2023-03-14
• 公開（公告）號: CN116481649A
• 公開（公告）日: 2023-07-25
• 發明（設計）人: 劉亞鼎;楊成;陳軍;何勇;薛小汝;郭春付;李偉奇;張傳維
• 申請（專利權）人: 武漢頤光科技有限公司
• 主分類號: G01J4/00
• 分類號: G01J4/00;G01N21/21;G01M11/02;G01B11/00;G01B11/06
• 代理公司: 武漢藍寶石專利代理事務所(特殊普通合伙) 42242
• 代理人: 方暉

本發明公開了一種單旋轉橢偏系統的校準方法、系統、設備及存儲介質，所述方法包括：分別確定標準樣件在雙旋轉橢偏系統下和單旋轉橢偏系統下對應的雙旋轉橢偏系統參數和單旋轉橢偏系統參數；根據雙旋轉橢偏系統參數對單旋轉橢偏系統參數進行調整，獲得單旋轉橢偏系統修正參數；基于單旋轉橢偏系統修正參數對單旋轉橢偏系統進行校準。相較于現有技術中由于電機的自身速度上限以及兩個電機的轉速比要求，導致測量速度以慢速電機為準，而本發明根據雙旋轉橢偏系統參數對單旋轉橢偏系統參數進行調整，獲得校準后的單旋轉橢偏系統，之后從雙旋轉橢偏系統切換成單旋轉橢偏系統，并將旋轉電機進行提速，從而使單次測量時間大幅縮短，進而提高測量速度。

技術領域

本發明涉及光電技術領域，尤其涉及一種單旋轉橢偏系統的校準方法、系統、設備及存儲介質。

背景技術

在半導體行業中，對光學關鍵尺度(OCD)的測量以及精細結構膜厚的測量，直接關系到生產樣品的精度以及良率。橢偏儀因其非接觸、無破壞、快速、高精度等優點，被廣泛應用于半導體工藝監測。

橢偏儀的基本配置包括：光源、起偏器、一號旋轉電機、補償器、待測樣品、補償器、二號旋轉電機、檢偏器以及光譜儀?，F有技術中雙旋轉橢偏儀的系統校準與測量的基本原理過程為：1、自然光通過偏振片以及旋轉波片后得到偏振光；2、偏振光經過標準樣品材料的反射或者透射得到的新的偏振光；3、新的偏振光經過檢偏臂的旋轉波片、檢偏片后得到變化的光強信息；4、對測量光強變化信息進行傅里葉變換得到傅里葉系數，通過傅里葉系數擬合迭代得到系統參數。在實際量產過程中，由于電機的自身速度上限以及兩個電機的轉速比要求，導致測量速度以慢速電機為準。因此，如何提高測量速度問題成為一個亟待解決的問題。

上述內容僅用于輔助理解本發明的技術方案，并不代表承認上述內容是現有技術。

發明內容

本發明的主要目的在于提供了一種單旋轉橢偏系統的校準方法、系統、設備及存儲介質，旨在解決如何提高測量速度的技術問題。

為實現上述目的，本發明提供了一種單旋轉橢偏系統的校準方法，所述單旋轉橢偏系統的校準方法包括：

分別確定標準樣件在雙旋轉橢偏系統下和單旋轉橢偏系統下對應的雙旋轉橢偏系統參數和單旋轉橢偏系統參數；

根據所述雙旋轉橢偏系統參數對所述單旋轉橢偏系統參數進行調整，獲得單旋轉橢偏系統修正參數；

基于所述單旋轉橢偏系統修正參數對所述單旋轉橢偏系統進行校準。

可選地，所述分別確定標準樣件在雙旋轉橢偏系統下和單旋轉橢偏系統下對應的雙旋轉橢偏系統參數和單旋轉橢偏系統參數的步驟，包括：

確定標準樣件在雙旋轉橢偏系統下對應的雙旋轉橢偏系統參數；

根據所述雙旋轉橢偏系統參數將雙旋轉橢偏系統切換為單旋轉橢偏系統；

確定所述標準樣件在所述單旋轉橢偏系統下對應的單旋轉橢偏系統參數。

可選地，所述確定標準樣件在雙旋轉橢偏系統下對應的雙旋轉橢偏系統參數的步驟，包括：

獲取標準樣件在雙旋轉橢偏系統下的第一光強信息；

對所述第一光強信息進行傅里葉變換，得到第一傅里葉系數；

根據所述第一傅里葉系數確定雙旋轉橢偏系統參數。

可選地，所述根據所述第一傅里葉系數確定雙旋轉橢偏系統參數的步驟，包括：

確定理論樣件對應的測量傅里葉系數；

將所述第一傅里葉系數和所述測量傅里葉系數進行擬合迭代，得到雙旋轉橢偏系統參數。

可選地，所述確定所述標準樣件在所述單旋轉橢偏系統下對應的單旋轉橢偏系統參數的步驟，包括：