[發明專利]三維模型的繪制處理方法、裝置、電子設備及存儲介質

在審

• 申請號: 202310259265.2
• 申請日: 2023-03-09
• 公開（公告）號: CN116310040A
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發明（設計）人: 趙子龍
• 申請（專利權）人: 北京新唐思創教育科技有限公司
• 主分類號: G06T15/04
• 分類號: G06T15/04;G06T19/20
• 代理公司: 北京開陽星知識產權代理有限公司 11710
• 代理人: 王艷斌

1.一種三維模型的繪制處理方法，包括：

響應于獲取到對三維空間中目標三維模型的繪制請求，在所述三維空間中顯示二維輸入區域；

響應于獲取到在所述二維輸入區域繪制對象的至少一個第一二維坐標，獲取所述目標三維模型的初始貼圖紋理；

確定所述至少一個第一二維坐標在所述初始貼圖紋理中對應的至少一個映射坐標，并根據所述至少一個映射坐標對所述初始貼圖紋理進行繪制處理，以得到繪制后的目標貼圖紋理；

根據所述目標貼圖紋理對所述目標三維模型進行貼圖處理，以實現在所述目標三維模型中對所述繪制對象的繪制。

2.如權利要求1所述的方法，其中，在所述響應于獲取到在所述二維輸入區域繪制對象的至少一個第一二維坐標之前，還包括：

在所述三維空間中顯示畫筆模型，接收所述畫筆模型在所述二維輸入區域的繪制對象；

響應于接收到對所述繪制對象的確認繪制操作，獲取所述繪制對象的至少一個第一二維坐標。

3.如權利要求2所述的方法，其中，在所述響應于接收到對所述繪制對象的確認繪制操作之前，還包括：

響應于獲取到對所述繪制對象的編輯操作，確定所述編輯操作對應的第二二維坐標；

對所述繪制對象的第二二維坐標進行編輯處理。

4.如權利要求1所述的方法，其中，所述確定所述至少一個第一二維坐標在所述初始貼圖紋理中對應的至少一個映射坐標，包括：

識別所述初始貼圖紋理對應的紋理形狀信息，并確定所述初始貼圖紋理的第一尺寸信息；

根據所述紋理形狀信息在所述二維輸入區域中確定包含所述至少一個第一二維坐標的目標包圍框；

確定所述目標包圍框的第二尺寸信息，根據所述第二尺寸信息和所述第一尺寸信息確定第一縮放比例；

根據所述第一縮放比例對所述至少一個第一二維坐標進行縮放處理，以獲取所述至少一個映射坐標。

5.如權利要求4所述的方法，其中，所述根據所述紋理形狀信息在所述二維輸入區域中確定包含所述至少一個第一二維坐標的目標包圍框，包括：

根據所述紋理形狀信息在所述二維輸入區域中確定包含所述至少一個第一二維坐標的最小包圍框為所述目標包圍框。

6.如權利要求1所述的方法，其中，所述確定所述至少一個第一二維坐標在所述初始貼圖紋理中對應的至少一個映射坐標，包括：

確定所述初始貼圖紋理對應的第一面積，并確定所述二維輸入區域的第二面積；

計算所述第二面積和所述第一面積的面積比值，根據所述面積比值確定第二縮放比例；

識別所述二維輸入區域的區域形狀信息，根據所述區域形狀信息和所述面積比值在所述初始貼圖紋理中確定目標繪制區域；

在所述目標繪制區域中，根據所述第二縮放比例確定與所述至少一個第一二維坐標對應的所述至少一個映射坐標。

7.如權利要求1-6任一所述的方法，其中，所述根據所述至少一個映射坐標對所述初始貼圖紋理進行繪制處理，以得到繪制后的目標貼圖紋理，包括：

獲取所述繪制對象的繪制參數信息，根據所述繪制參數信息在所述至少一個映射坐標繪制處理，以得到所述繪制后的目標貼圖紋理。

8.一種三維模型的繪制處理裝置，包括：

顯示模塊，用于響應于獲取到對三維空間中目標三維模型的繪制請求，在所述三維空間中顯示二維輸入區域；

獲取模塊，用于響應于獲取到在所述二維輸入區域繪制對象的至少一個第一二維坐標，獲取所述目標三維模型的初始貼圖紋理；

繪制模塊，用于確定所述至少一個第一二維坐標在所述初始貼圖紋理中對應的至少一個映射坐標，并根據所述至少一個映射坐標對所述初始貼圖紋理進行繪制處理，以得到繪制后的目標貼圖紋理；

貼圖處理模塊，用于根據所述目標貼圖紋理對所述目標三維模型進行貼圖處理，以實現在所述目標三維模型中對所述繪制對象的繪制。