[發明專利]一種水負離子發生裝置及其水負離子噴射結構在審
| 申請號： | 202310247781.3 | 申請日： | 2023-03-15 |
| 公開（公告）號： | CN116053936A | 公開（公告）日： | 2023-05-02 |
| 發明（設計）人： | 厲亞;陳黎俊;周剛 | 申請（專利權）人： | 浙江水荔枝健康科技有限公司 |
| 主分類號： | H01T23/00 | 分類號： | H01T23/00;F24F8/30;F24F5/00;F24F6/00;H05F3/04;A61N1/44 |
| 代理公司： | 成都博領眾成知識產權代理事務所(普通合伙) 51340 | 代理人： | 原婧 |
| 地址： | 318054 浙江省臺*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 負離子 發生 裝置 及其 噴射 結構 | ||
1.一種水負離子噴射結構，其特征在于，包括：
支架，其具有容置通道；
摩擦緩沖裝置，其設置在所述容置通道中并且具有吸水性和彈性；
水負離子噴射裝置，其用于振動摩擦所述摩擦緩沖裝置中的水；
絕緣層，其具有通孔，并且所述水負離子噴射裝置位于所述絕緣層和所述支架之間；和
導電層，所述導電層設置在所述支架和所述絕緣層的外表面，并且具有通道，所述導電層的所述通道與所述絕緣層的所述通孔位置對應，以允許所述水負離子噴射裝置產生的帶電水滴通過所述絕緣層的所述通孔和所述導電層的所述通道釋放至所述水負離子噴射結構的外部。
2.根據權利要求1所述的水負離子噴射結構，其中所述水負離子噴射裝置包括噴射片和環形的疊置于所述噴射片的壓電陶瓷片，所述噴射片具有噴射孔，所述噴射片和所述壓電陶瓷片在受到電壓驅動時所述噴射片產生振動并摩擦所述摩擦緩沖裝置中的水滴，從而從所述噴射孔中噴出帶電水滴。
3.根據權利要求2所述的水負離子噴射結構，其中所述噴射片由相對于水更容易失去電荷的材料制成或所述噴射片表面設置有涂層，所述涂是聚酰亞胺、鋁或聚酰胺。
4.根據權利要求2所述的水負離子噴射結構，其中所述噴射片的所述噴射孔的孔徑尺寸小于10微米。
5.根據權利要求1所述的水負離子噴射結構，其中所述支架具有連通通道，所述連通通道形成所述容置通道和導引通道，所述導引通道連通至儲水容器的儲水腔，從而將所述儲水容器的所述儲水腔中水引導至所述容置通道中的所述摩擦緩沖裝置。
6.根據權利要求5所述的水負離子噴射結構，其中所述支架的所述連通通道還具有緩沖通道，所述緩沖通道位于所述導引通道和所述容置通道之間，并且所述緩沖通道和所述容置通道沿水平方向布置，所述導引通道沿豎直方向布置，所述摩擦緩沖裝置只位于所述容置通道中而被阻止進入所述緩沖通道。
7.根據權利要求1至6中任一所述的水負離子噴射結構，其中所述導電層通過連接導線連接至控制電路板以進行消靜電處理。
8.水負離子發生裝置，其特征在于，包括：
儲水容器，其具有儲水腔；和
水負離子噴射結構，其包括：
支架，其具有容置通道；
摩擦緩沖裝置，其設置在所述容置通道中并且具有吸水性和彈性，其中所述儲水容器的所述儲水腔中的水被供應至所述容置通道中的所述摩擦緩沖裝置；
水負離子噴射裝置，其用于振動摩擦所述摩擦緩沖裝置中的水；
絕緣層，其具有通孔，并且所述水負離子噴射裝置位于所述絕緣層和所述支架之間；和
導電層，所述導電層設置在所述支架和所述絕緣層的外表面，并且具有通道，所述導電層的所述通道與所述絕緣層的所述通孔位置對應，以允許所述水負離子噴射裝置產生的帶電水滴通過所述絕緣層的所述通孔和所述導電層的所述通道釋放至所述水負離子噴射結構的外部。
9.根據權利要求8所述的水負離子發生裝置，其中還包括控制電路板，其中所述導電層電連接于所述控制電路板并進行消靜電處理。
10.根據權利要求8所述的水負離子發生裝置，其中還包括電離裝置，其包括電離針頭，用于放電以對所述水負離子噴射裝置產生的帶電水滴補充負電荷。
11.根據權利要求8所述的水負離子發生裝置，其中還包括風機裝置，其包括風機和空氣過濾層，用于向所述水負離子噴射裝置送風。
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