[發(fā)明專利]顯示基板的斷線修復(fù)方法和顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202310238043.2 | 申請日: | 2023-03-08 |
| 公開(公告)號: | CN116520614A | 公開(公告)日: | 2023-08-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張勇;袁海江 | 申請(專利權(quán))人: | 滁州惠科光電科技有限公司;惠科股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1368 |
| 代理公司: | 深圳市百瑞專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44240 | 代理人: | 邢濤 |
| 地址: | 239200 安徽省滁*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 斷線 修復(fù) 方法 面板 | ||
本申請公開了一種顯示基板的斷線修復(fù)方法的顯示面板,所述斷線修復(fù)方法包括步驟:找出顯示基板中的導(dǎo)線中的斷線;確定斷線上的斷點的位置;去除斷點的兩側(cè)的表面上的所有膜層,形成兩個過孔,以暴露斷點所在的導(dǎo)線;過孔內(nèi)填充導(dǎo)電材料;切割遮光電極層,形成至少三段遮光電極層,三段遮光電極層中的中間段的遮光電極層形成修復(fù)線,通過過孔內(nèi)的導(dǎo)電材料與所述斷點上方的所述遮光電極以連通所述導(dǎo)線。本申請利用獨立控制的遮光電極層作為修復(fù)線,導(dǎo)線斷開時,通過打孔注入導(dǎo)電材料使遮光電極層與導(dǎo)電進(jìn)行導(dǎo)通,并切斷遮光電極層兩端,保證修復(fù)功能的前提下減少接觸面小避免孔內(nèi)導(dǎo)電材料被毛刷水洗時去除掉。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種顯示基板的斷線修復(fù)方法和顯示面板。
背景技術(shù)
液晶顯示器(Liquid?Crystal?Display,LCD)具有機身薄、省電、無輻射等眾多優(yōu)點,得到了廣泛的應(yīng)用。液晶顯示器中的液晶顯示面板(liquid?crystal?display?panel)的制造工藝一般包括陣列(array)制程、成盒(cell)制程(薄膜晶體管基板與彩膜基板貼合)及模組組裝制程。對金屬層(Metal)圖案化形成電路導(dǎo)線,由于存在制程異物,在陣列制程過程中經(jīng)常會出現(xiàn)斷線缺陷,導(dǎo)致電路導(dǎo)線斷開,從而形成不良品。
針對掃描線和數(shù)據(jù)線的斷線缺陷,通常沿用顯示區(qū)上的斷線修補技術(shù)來修補斷線缺陷,使用導(dǎo)電材料進(jìn)行橋接線路,從而導(dǎo)通線路,但導(dǎo)電材料在經(jīng)過后段制程易被毛刷及高壓水洗洗掉,導(dǎo)致線路短路。
發(fā)明內(nèi)容
本申請的目的是提供一種顯示基板的斷線修復(fù)方法和顯示面板,通過打孔將遮光電極層轉(zhuǎn)為線路橋接的一部分,保證修復(fù)功能的前提下使得孔內(nèi)的導(dǎo)電材料在經(jīng)過后段制程不易被毛刷及高壓水洗洗掉。
本申請公開了一種顯示基板的斷線修復(fù)方法,所述顯示基板包括襯底,以及依次設(shè)置在所述襯底上的絕緣層、金屬層、第一鈍化層、色阻層、第二鈍化層和遮光電極層,所述斷線修復(fù)方法包括步驟:
找出顯示基板中的導(dǎo)線中的斷線;
確定斷線上的斷點的位置;
去除斷點的兩側(cè)的表面上的所有膜層,形成兩個過孔,以暴露斷點所在的導(dǎo)線;
過孔內(nèi)填充導(dǎo)電材料;以及
切割遮光電極層,形成至少三段遮光電極層,中間段的遮光電極層在襯底上的投影覆蓋兩個過孔以及兩個過孔之間的膜層在襯底上的投影;
其中,中間段的遮光電極層形成修復(fù)線,通過過孔內(nèi)的導(dǎo)電材料與所述斷點上方的所述遮光電極以連通所述導(dǎo)線。
可選的,所述切割遮光電極層,形成至少三段遮光電極層,中間段的遮光電極層在襯底上的投影覆蓋兩個過孔以及兩個過孔之間的膜層在襯底上的投影的步驟中,三段遮光電極層互不連通,三段遮光電極層中形成有兩個隔離凹槽,兩個隔離凹槽之間的遮光電極層的寬度大于兩個過孔之間的寬度,兩個隔離凹槽分別為第一隔離凹槽和第二隔離凹槽,兩個過孔分別為第一過孔和第二過孔,第一隔離凹槽靠近所述第一過孔,第二隔離凹槽靠近所述第二過孔,所述第一隔離凹槽與所述第一過孔之間的間距等于所述第二隔離凹槽與所述第一過孔之間的間距。
可選的,在所述去除斷點的兩側(cè)的表面上的所有膜層,形成兩個過孔,以暴露斷點所在的數(shù)據(jù)線的步驟中,所述斷點與兩個過孔之間的間距的距離為d,所述d的取值范圍為,0<d<8um。
可選的,所述第一隔離凹槽和所述第二隔離凹槽在數(shù)據(jù)線信號傳輸方向上的寬度為s1,所述s1的取值范圍為,10um<s1<30um。
可選的,所述導(dǎo)線為數(shù)據(jù)線或掃描線。
可選的,所述數(shù)據(jù)線包括三層金屬層,三層金屬層中的上下兩層金屬為鉬金屬層,中間層金屬為鋁金屬層;在去除斷點的兩側(cè)的表面上的所有膜層,形成兩個過孔,以暴露斷點所在的數(shù)據(jù)線的步驟中包括:
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





