[發(fā)明專利]一種焊帶選擇性鍍錫的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202310207858.4 | 申請(qǐng)日: | 2023-01-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN116179986A | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-05-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳章洋;王偉亮;孫余軍;曹育紅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 常州時(shí)創(chuàng)能源股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C2/08 | 分類號(hào): | C23C2/08;C23C2/40;C23C2/38;C23C2/02;C25D3/30;C25D5/02;C25D7/06;C25D5/34 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 213300 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 選擇性 鍍錫 方法 | ||
1.一種焊帶選擇性鍍錫的方法,其特征在于,包括如下步驟:
對(duì)焊帶的不同面進(jìn)行選擇性預(yù)處理,使得鍍錫面容易鍍錫,非鍍錫面不易鍍錫;然后將預(yù)處理后的焊帶通過(guò)鍍錫槽,得到選擇性鍍錫的焊帶;
所述預(yù)處理包括采用化學(xué)或物理方法對(duì)非鍍錫面包裹保護(hù)層,使得非鍍錫面無(wú)法直接沾錫或電鍍錫。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊帶選擇性鍍錫的方法,其特征在于,所述預(yù)處理的方法包括:對(duì)焊帶進(jìn)行表面氧化處理,再將鍍錫面的氧化層去除,保留非鍍錫面的氧化層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊帶選擇性鍍錫的方法,其特征在于,所述預(yù)處理的方法包括:采用復(fù)合金屬焊帶,鍍錫面采用能夠沾錫的金屬,非鍍錫面采用不直接沾錫的金屬。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的焊帶選擇性鍍錫的方法,其特征在于,所述復(fù)合金屬包括銅包鋁結(jié)構(gòu)的復(fù)合金屬,非鍍錫面去除銅層裸露出鋁材,鍍錫面不做處理。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊帶選擇性鍍錫的方法,其特征在于,所述預(yù)處理的方法包括:在非鍍錫面附著隔離保護(hù)材料,鍍錫完成后將隔離保護(hù)材料去除。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的焊帶選擇性鍍錫的方法,其特征在于,所述隔離保護(hù)材料包括高分子膜層材料和固化膠水。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊帶選擇性鍍錫的方法,其特征在于,所述預(yù)處理的方法包括:對(duì)不易鍍錫的金屬焊帶進(jìn)行局部或全部鍍能夠沾錫的金屬,將非鍍錫面的能夠沾錫的金屬去除,然后進(jìn)行鍍錫。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊帶選擇性鍍錫的方法,其特征在于,所述預(yù)處理的方法包括:對(duì)不易鍍錫的金屬焊帶進(jìn)行全表面氧化處理,然后將鍍錫面的氧化層去除,去除后鍍上能夠沾錫的金屬,然后進(jìn)行鍍錫處理。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的焊帶選擇性鍍錫的方法,其特征在于,所述不易鍍錫的金屬焊帶包括以鋁為基材的金屬焊帶,所述能夠沾錫的金屬包括鎳。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊帶選擇性鍍錫的方法,其特征在于,所述鍍錫槽包括熱浸鍍錫槽或電鍍錫槽。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于常州時(shí)創(chuàng)能源股份有限公司,未經(jīng)常州時(shí)創(chuàng)能源股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202310207858.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態(tài)覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝;其所用的設(shè)備
C23C2-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過(guò)量熔融覆層的除去;覆層厚度的控制或調(diào)節(jié)
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態(tài)槽液上的覆蓋物
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





