[發明專利]一種激光器在審
| 申請號: | 202310206302.3 | 申請日: | 2023-02-24 |
| 公開(公告)號: | CN116316017A | 公開(公告)日: | 2023-06-23 |
| 發明(設計)人: | 任戩;劉猛;陸從文 | 申請(專利權)人: | 深圳市杰普特光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01S3/081 | 分類號: | H01S3/081;H01S3/082;H01S3/117;H01S3/109 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 王震 |
| 地址: | 518110 廣東省深圳市龍華區觀湖街*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 激光器 | ||
1.一種激光器,其特征在于,包括:
泵源,所述泵源用于產生泵浦光;
第一透鏡裝置,所述第一透鏡裝置設置在所述泵源輸入泵浦光的一側;
第一諧振裝置,所述第一諧振裝置設置在所述第一透鏡裝置背離所述泵源的一側,所述第一諧振裝置用于透射泵浦光;
第一晶體裝置,所述第一晶體裝置設置在所述第一諧振裝置背離所述第一透鏡裝置的一側,所述第一晶體裝置用于吸收泵浦光并產生基頻光;
第二諧振裝置,所述第二諧振裝置設置在所述第一晶體裝置背離所述第一諧振裝置的一側,所述第二諧振裝置用于透射泵浦光并反射基頻光;
第三諧振裝置,所述第三諧振裝置設置所述第二諧振裝置與所述第一晶體裝置相鄰的一側,且所述第三諧振裝置位于所述第二諧振裝置反射的基頻光的方向,以及所述第三諧振裝置用于反射基頻光;
第一轉化裝置,所述第一轉化裝置設置在所述第三諧振裝置的一側,且所述第一轉化裝置位于所述第三諧振裝置反射的基頻光的方向,以及所述第一轉化裝置包括第一倍頻晶體和第二倍頻晶體,其中,所述第一倍頻晶體設置在所述第一轉化裝置靠近所述第三諧振裝置的一側,所述第二倍頻晶體設置在所述第一轉化裝置背離所述第三諧振裝置的一側,所述第一倍頻晶體用于產生目標激光,所述第二倍頻晶體用于產生可轉化為目標激光的轉化激光;
第四諧振裝置,所述第四諧振裝置設置在所述第一轉化裝置背離所述第三諧振裝置的一側。
2.根據權利要求1所述的激光器,其特征在于,
所述泵源包括第一泵源,所述第一泵源用于產生泵浦光;
所述第一透鏡裝置包括第一透鏡、第二透鏡,所述第一透鏡設置在所述第一泵源輸出泵浦光的一側,所述第二透鏡設置在所述第一透鏡背離所述第一泵源的一側;
所述第一諧振裝置包括第一諧振腔鏡片,所述第一諧振腔鏡片設置在所述第二透鏡背離所述第一透鏡的一側。
3.根據權利要求2所述的激光器,其特征在于,所述第一晶體裝置包括第一激光晶體,所述第一激光晶體設置在所述第一諧振腔鏡片背離所述第二透鏡的一側。
4.根據權利要求3所述的激光器,其特征在于,所述第二諧振裝置包括第二諧振腔鏡片,所述第二諧振腔鏡片設置在所述第一晶體裝置背離所述第一諧振裝置的一側;
所述第三諧振裝置包括第三諧振腔鏡片和調控晶體,所述第三諧振腔鏡片設置在所述第二諧振裝置且與所述第一晶體裝置相鄰的一側,且所述第三諧振腔鏡片與所述第二諧振腔鏡片垂直,所述第三諧振腔鏡片用于透射泵浦光和反射基頻光,以及所述調控晶體設置在所述第三諧振腔鏡片與所述第二諧振腔鏡片之間;
其中,所述第一倍頻晶體設置在所述第三諧振腔鏡片的一側,且所述第一倍頻晶體位于所述第三諧振腔鏡片反射基頻光的方向,以及所述第二倍頻晶體設置在所述第一倍頻晶體背離所述第三諧振腔鏡片的一側,且所述第一倍頻晶體為三倍頻晶體,所述第二倍頻晶體為二倍頻晶體;
所述第四諧振裝置包括第四諧振腔鏡片,所述第四諧振腔鏡片設置在所述第二倍頻晶體背離所述第一倍頻晶體的一側,且所述第四諧振腔鏡片與所述第二倍頻晶體和第一倍頻晶體垂直,所述第四諧振腔鏡片用于反射基頻光和所述第二倍頻晶體對基頻光進行轉化后的所述轉化激光。
5.根據權利要求4所述的激光器,其特征在于,所述激光器還包括擋光片,所述擋光片設置在所述第四諧振腔鏡片反射基頻光和所述轉化激光的方向,所述擋光片用于遮擋雜光。
6.根據權利要求5所述的激光器,其特征在于,所述泵源還包括第二泵源,所述第二泵源用于產生泵浦光,所述第二泵源設置在所述第一泵源的一側,且所述第二泵源與所述第一泵源平行,以及所述第二泵源輸出泵浦光的一端與所述第一泵源輸出泵浦光的一端同側;
所述第一透鏡裝置還包括第三透鏡,所述第三透鏡設置所述第二泵源輸出泵浦光的一側,且所述第三透鏡的光軸與所述第一泵源輸出的泵浦光的方向垂直;
其中,所述第一透鏡、第二透鏡和第三透鏡均為泵浦整形聚焦透鏡。
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