[發明專利]抗彩虹紋高透光薄膜及其制備方法

在審

• 申請號: 202310204600.9
• 申請日: 2023-03-06
• 公開（公告）號: CN116353117A
• 公開（公告）日: 2023-06-30
• 發明（設計）人: 金闖;劉愷民;汪緒;蔣曉明
• 申請（專利權）人: 太倉斯迪克新材料科技有限公司;江蘇斯迪克新材料科技股份有限公司
• 主分類號: B29D11/00
• 分類號: B29D11/00;B32B27/36;B32B27/18;B32B27/06;B32B33/00;C08J7/04;C09D133/00;C09D171/00;C09D5/32;C08L67/02;B29L11/00
• 代理公司: 北京遠大卓悅知識產權代理有限公司 11369
• 代理人: 徐晨

1.一種抗彩虹紋高透光薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、制備納米高折漿料涂布液和制備表面涂布液：

將丙烯酸膠粘劑、高折射率顆粒、紫外吸收劑、抗氧劑和流平劑均勻混合，得到納米高折漿料涂布液；將丙烯酸膠粘劑、紫外吸收劑、抗氧劑和流平劑均勻混合，得到表面涂布液；

S2、制備主擠樹脂和輔擠樹脂：

將預先干燥后的聚酯樹脂與光穩定劑、分散劑、增塑劑混合，得到主擠樹脂；將預先干燥后的聚酯樹脂與光穩定劑、分散劑、增塑劑、納米二氧化硅顆粒混合，得到輔擠樹脂；

S3、鑄片：將主擠樹脂、輔擠樹脂熔融，以兩側為輔擠樹脂、中間芯層為主擠樹脂共擠，得到ABA三層共擠結構，冷卻、鑄片，得到聚酯鑄片基材；

S4、拉伸：

S4-1、將聚酯鑄片基材進行縱向拉伸，控制拉伸倍率為1-3倍；

S4-2、將納米高折漿料涂布液涂布在聚酯鑄片基材的上表面，將表面涂布液涂布在聚酯鑄片基材的下表面，然后進行橫向拉伸，控制拉伸倍率為2-5.5倍；

S4-3、熱定型，冷卻定型，收卷，得到聚酯光學膜；

S5、制備防指紋涂層：在步驟S4制得的聚酯光學膜表面噴涂防指紋涂液，干燥后形成防指紋層，最終得到所述抗彩虹紋高透光薄膜。

2.根據權利要求1所述的抗彩虹紋高透光薄膜的制備方法，其特征在于，所述聚酯樹脂選自聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對萘二酸乙二醇酯中的至少一種。

3.根據權利要求2所述的抗彩虹紋高透光薄膜的制備方法，其特征在于，所述高折射率顆粒選自二氧化硅、二氧化鋯、二氧化鈦和氧化鉍中的至少一種。

4.根據權利要求3所述的抗彩虹紋高透光薄膜的制備方法，其特征在于，所述防指紋涂液中含有聚硅氧烷系防污劑、氟系防污劑中的一種或兩種。

5.根據權利要求4所述的抗彩虹紋高透光薄膜的制備方法，其特征在于，所述防指紋涂液的制備方法為：在攪拌條件下向甲基九氟丁醚中加入全氟聚醚、聚丙烯酸和四甲基乙二胺，連續攪拌0.5-3小時，得到防指紋涂液。