[發(fā)明專利]GIS數(shù)據(jù)中按參考圖層擬合的條帶狀圖斑繪制的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202310192601.6 | 申請日: | 2023-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN116152381A | 公開(公告)日: | 2023-05-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙俊三;李勇;秦睿;楊宏瑞;趙科;趙齊果;張萬強;鄧聲熬 | 申請(專利權(quán))人: | 昆明理工大學(xué);云南云金地科技有限公司 |
| 主分類號: | G06T11/20 | 分類號: | G06T11/20 |
| 代理公司: | 昆明盛鼎宏圖知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 53203 | 代理人: | 王輝 |
| 地址: | 650000 云南*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | gis 數(shù)據(jù) 參考 擬合 帶狀 繪制 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種GIS數(shù)據(jù)中按參考圖層擬合的條帶狀圖斑繪制的方法,所述的條帶狀圖斑繪制的方法包括以下步驟:步驟1:沿條帶狀參考圖繪制折線L1,繪制的折線L1的端點為P1點和P2點;步驟2:設(shè)置地物的寬度D;步驟3:根據(jù)判斷方法判斷折線L1是否要延長,如需延長采用延長方式對折線L1進行延長,延長后的線為L2;步驟4:對延長后的線L2進行偏移;所述的偏移包括左偏移或右偏移或兩側(cè)偏移;步驟5:線構(gòu)面;步驟6:查找關(guān)聯(lián)的圖斑,形成一個圖斑列表T;步驟7:裁剪新構(gòu)面。本發(fā)明以關(guān)聯(lián)的參考圖形對新生成圖形進行裁剪,使新圖形在端頭處與參考圖形的擬合更準(zhǔn)確。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于圖斑繪制方法技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種GIS數(shù)據(jù)中按參考圖層擬合的條帶狀圖斑繪制的方法技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
在以前1:10000土地利現(xiàn)狀數(shù)據(jù)中的,道路和河流以線狀圖形表達,現(xiàn)在隨著調(diào)查精度的提高,采用了1:5000比例尺或者更大的比例尺,道路和河流都將采用面狀圖形來表達,面狀圖形有利于簡化數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性,也可以給后續(xù)的數(shù)據(jù)應(yīng)用帶來極大的便利性。初始調(diào)查數(shù)據(jù)完成后的數(shù)據(jù)庫每年需要更新,這就需要勾繪出新增或已經(jīng)變化的道路和河流的圖斑來更新初始調(diào)查數(shù)據(jù)庫。
見圖1,以前繪制道路和河流,常用的繪制方式有兩種,第一種方式是繪制單線,然后緩沖生成面,但這種方式有兩個弊端,一是轉(zhuǎn)角處是圓弧,二是和其他圖斑在端頭需要接邊的地方擬合不好,增加了后期數(shù)據(jù)處理的工作量;第二種方式是沿著道路與河流的輪廓進行勾繪,這需要的時間比較長。我們提出一種勾繪這類圖形的思路來解決轉(zhuǎn)角處圓弧、端頭接邊、繪制效率的問題。
經(jīng)檢索,未檢索到與條帶狀圖斑繪制解決方法相關(guān)的技術(shù)公開。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明正是為了解決上述問題缺陷,提供一種GIS數(shù)據(jù)中按參考圖層擬合的條帶狀圖斑繪制的方法。
本發(fā)明采用如下技術(shù)方案實現(xiàn)。
一種GIS數(shù)據(jù)中按參考圖層擬合的條帶狀圖斑繪制的方法,所述的條帶狀圖斑繪制的方法包括以下步驟:
步驟1:沿條帶狀參考圖繪制折線L1,繪制的折線L1的端點為P1點和P2點;
步驟2:設(shè)置地物的寬度D;
步驟3:根據(jù)判斷方法判斷折線L1是否要延長,如需延長采用延長方式對折線L1進行延長,延長后的線為L2。
步驟4:對延長后的線L2進行偏移;所述的偏移包括左偏移或右偏移或兩側(cè)偏移;
步驟5:線構(gòu)面;
步驟6:查找關(guān)聯(lián)的圖斑,形成一個圖斑列表T;
步驟7:裁剪新構(gòu)面。
本發(fā)明所述步驟3的判斷方法為:折線L1是否需要延長,以其端點P1,P2是否在其他面的邊界上為判斷依據(jù),如果是P1、P2在邊界上,則延長相應(yīng)端。
本發(fā)明所述步驟3的延長方式為:折線L1的端點:P1、P2與各自上一節(jié)點構(gòu)成的直線做直線延長,P1的上一節(jié)點為P3,P2的上一節(jié)點為P4;延長的距離為地物的寬度D的1倍;延長后的線為L2,端點為P5點和P6點。
本發(fā)明所述步驟4所述左偏移為:將L2沿著繪制方向進行左偏移,偏移量為1倍地物的寬度D,左偏移線為L3。
本發(fā)明所述步驟4所述右偏移為:將L2沿著繪制方向進行右偏移,偏移量為1倍地物的寬度D,右偏移線為L4。
本發(fā)明所述步驟4所述兩側(cè)偏移為:將L2沿著繪制方向進行左、右偏移,偏移量為0.5倍地物的寬度D,偏移后的線為L5、L6。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于昆明理工大學(xué);云南云金地科技有限公司,未經(jīng)昆明理工大學(xué);云南云金地科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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