[發(fā)明專利]擠壓涂布模頭和涂布機(jī)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202310120173.6
• 申請(qǐng)日: 2023-02-15
• 公開（公告）號(hào): CN115970987A
• 公開（公告）日: 2023-04-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張傳祥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 重慶太藍(lán)新能源有限公司
• 主分類號(hào): B05C5/02
• 分類號(hào): B05C5/02
• 代理公司: 北京志霖恒遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11435
• 代理人: 郭棟梁

本發(fā)明屬于涂布設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種擠壓涂布模頭和涂布機(jī)，包括：模頭主體，模頭主體具有進(jìn)料口、擠出涂布口，以及連通進(jìn)料口和擠出涂布口的擠壓流道；多個(gè)并排設(shè)置的涂布控制件，涂布控制件并排設(shè)置的方向，與擠壓流道的物料擠出方向相交；所述涂布控制件包括第一涂布控制件，所述第一涂布控制件具有第一工作位和第二工作位，且可在所述第一工作位和所述第二工作位之間切換；所述第一工作位配置為對(duì)應(yīng)所述第一涂布控制件開啟其所在范圍內(nèi)的所述擠壓流道，所述第二工作位配置為對(duì)應(yīng)所述第一涂布控制件阻斷其所在范圍內(nèi)的所述擠壓流道。上述方案，可以在涂布時(shí)實(shí)現(xiàn)位置、大小和間距均可控的留白。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于涂布設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種擠壓涂布模頭和涂布機(jī)。

背景技術(shù)

擠壓涂布一般是將物料(如漿料等)，經(jīng)擠壓涂布模頭的狹縫出口擠出，并附著在基材(如膜材)的表面，以形成復(fù)合的層狀結(jié)構(gòu)。目前的擠壓涂布模頭，只能在基材上涂布整面的涂層，而無法形成在預(yù)定位置以及間隙上具有留白的涂層。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷或不足，本發(fā)明提供一種擠壓涂布模頭和涂布機(jī)，至少可以在涂布時(shí)實(shí)現(xiàn)位置、大小和間距均可控的留白。

第一方面，本發(fā)明提供的一種擠壓涂布模頭，包括：

模頭主體，所述模頭主體具有進(jìn)料口、擠出涂布口，以及連通所述進(jìn)料口和所述擠出涂布口的擠壓流道；

多個(gè)并排設(shè)置的涂布控制件，所述涂布控制件并排設(shè)置的方向，與所述擠壓流道的物料擠出方向相交；所述涂布控制件包括第一涂布控制件，所述第一涂布控制件具有第一工作位和第二工作位，且可在所述第一工作位和所述第二工作位之間切換；所述第一工作位配置為對(duì)應(yīng)所述第一涂布控制件開啟其所在范圍內(nèi)的所述擠壓流道，所述第二工作位配置為對(duì)應(yīng)所述第一涂布控制件阻斷其所在范圍內(nèi)的所述擠壓流道。

作為可實(shí)現(xiàn)方式，所述涂布控制件還包括第二涂布控制件，所述第二涂布控制件僅具有所述第一工作位。

作為可實(shí)現(xiàn)方式，所述涂布控制件還包括第三涂布控制件，第三涂布控制件僅具有所述第二工作位。

作為可實(shí)現(xiàn)方式，還包括驅(qū)動(dòng)軸，所述第一涂布控制件、所述第二涂布控制件以及所述第三涂布控制件并排穿裝于所述驅(qū)動(dòng)軸上，且所述第一涂布控制件與所述驅(qū)動(dòng)軸止旋配合，所述第二涂布控制件以及所述第三涂布控制件均與所述驅(qū)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)配合。

作為可實(shí)現(xiàn)方式，還包括多個(gè)直線驅(qū)動(dòng)器，各所述直線驅(qū)動(dòng)器與所述第一涂布控制件一一對(duì)應(yīng)連接，用于驅(qū)動(dòng)對(duì)應(yīng)的所述第一涂布控制件在所述第一工作位和所述第二工作位之間切換。

作為可實(shí)現(xiàn)方式，所述的擠壓涂布模頭還包括同軸設(shè)置的兩根驅(qū)動(dòng)軸，各所述驅(qū)動(dòng)軸上均并排穿裝有所述第一涂布控制件、所述第二涂布控制件以及所述第三涂布控制件，且所述第一涂布控制件與對(duì)應(yīng)的所述驅(qū)動(dòng)軸止旋配合，所述第二涂布控制件以及所述第三涂布控制件均與對(duì)應(yīng)的所述驅(qū)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)配合。

作為可實(shí)現(xiàn)方式，所述模頭主體包括對(duì)合的第一模體和第二模體，所述第一模體與所述第二模體之間設(shè)置有暴露所述擠出涂布口的密封墊。

作為可實(shí)現(xiàn)方式，所述第一模體朝向所述第二模體的一側(cè)設(shè)置有第一凹槽，所述第二模體朝向所述第一模體的一側(cè)設(shè)置有第二凹槽；所述第一涂布控制件、所述第二涂布控制件以及所述第三涂布控制件并排設(shè)置于所述第二凹槽內(nèi)，且，在所述第二工作位，所述第一涂布控制件及所述第三涂布控制件的自由端位于所述第一凹槽。

作為可實(shí)現(xiàn)方式，所述第二涂布控制件上靠近所述第一模體的一側(cè)，設(shè)置有第一定位凸起，所述第二模體上設(shè)置有第一定位配合面，所述第一定位凸起與所述第一定位配合面頂止配合，用于限制所述第二涂布控制件自所述第一工作位向所述第一模體轉(zhuǎn)動(dòng)。