[發(fā)明專利]壓力校準(zhǔn)方法、設(shè)備、裝置及介質(zhì)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202310108081.6 | 申請(qǐng)日: | 2023-02-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN115890475B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-06-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 閔源;穆曉波 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣州粵芯半導(dǎo)體技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | B24B37/04 | 分類號(hào): | B24B37/04;B24B37/005;B24B49/16;B24B57/02;H01L21/306 |
| 代理公司: | 華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 周婷婷 |
| 地址: | 510700 廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 壓力 校準(zhǔn) 方法 設(shè)備 裝置 介質(zhì) | ||
1.一種壓力校準(zhǔn)方法,其特征在于,用于校準(zhǔn)研磨機(jī)臺(tái)不同研磨區(qū)域的研磨壓力,所述方法包括:
獲取所述不同研磨區(qū)域的初始?jí)毫χ担?/p>
根據(jù)所述初始?jí)毫χ导芭c其對(duì)應(yīng)研磨區(qū)域的研磨頭尺寸的關(guān)聯(lián)關(guān)系確定不同研磨區(qū)域的初始校準(zhǔn)壓力值;根據(jù)所述初始?jí)毫χ导芭c其對(duì)應(yīng)研磨區(qū)域的研磨頭尺寸的關(guān)聯(lián)關(guān)系確定不同研磨區(qū)域的初始校準(zhǔn)壓力值包括:根據(jù)所述研磨頭尺寸確定對(duì)應(yīng)研磨區(qū)域的壓力校準(zhǔn)系數(shù);根據(jù)所述壓力校準(zhǔn)系數(shù)及所述初始?jí)毫χ蛋凑杖缦鹿接?jì)算不同研磨區(qū)域的所述初始校準(zhǔn)壓力值:
Pid=Pia*(1+Zi);式中,Pid為第i研磨區(qū)域的初始校準(zhǔn)壓力值,Pia為第i研磨區(qū)域的初始?jí)毫χ担琙i為第i研磨區(qū)域的壓力校準(zhǔn)系數(shù),i為正整數(shù);
根據(jù)所述初始校準(zhǔn)壓力值及預(yù)設(shè)規(guī)則確定不同研磨區(qū)域的目標(biāo)校準(zhǔn)壓力值;所述預(yù)設(shè)規(guī)則包括不同研磨區(qū)域的研磨頭實(shí)時(shí)使用次數(shù)與所述初始校準(zhǔn)壓力值的關(guān)聯(lián)關(guān)系;所述預(yù)設(shè)規(guī)則還包括:根據(jù)所述不同研磨區(qū)域的研磨頭實(shí)時(shí)使用次數(shù)按照如下公式計(jì)算調(diào)整壓力值:
Pib=N*Si/M;式中,Pib為第i研磨區(qū)域的調(diào)整壓力值,Si為第i研磨區(qū)域的研磨頭的實(shí)時(shí)使用次數(shù),N為壓力調(diào)整系數(shù),M為研磨頭的壽命次數(shù),i為正整數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓力校準(zhǔn)方法,其特征在于,不同研磨區(qū)域的所述初始?jí)毫χ蛋A(yù)設(shè)的研磨制程工藝程序的設(shè)定壓力值。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的壓力校準(zhǔn)方法,其特征在于,所述壓力校準(zhǔn)系數(shù)Z的范圍為-0.5至0.5。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的壓力校準(zhǔn)方法,其特征在于,所述方法還包括:
根據(jù)所述調(diào)整壓力值的計(jì)算公式,建立所述研磨頭的實(shí)時(shí)使用次數(shù)與所述調(diào)整壓力值關(guān)系查詢表,并生成由所述研磨機(jī)臺(tái)直接讀取的計(jì)算機(jī)程序。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的壓力校準(zhǔn)方法,其特征在于,所述預(yù)設(shè)規(guī)則還包括:
根據(jù)所述調(diào)整壓力值及所述初始校準(zhǔn)壓力值計(jì)算目標(biāo)校準(zhǔn)壓力值,所述目標(biāo)校準(zhǔn)壓力值為所述初始?jí)毫χ蹬c所述調(diào)整壓力值的差值。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓力校準(zhǔn)方法,其特征在于,包括以下特征中至少一個(gè):
所述壓力調(diào)整系數(shù)為0.2psi;
所述研磨頭的壽命次數(shù)為2000。
7.根據(jù)權(quán)利要求2-6任一項(xiàng)所述的壓力校準(zhǔn)方法,其特征在于,所述研磨頭的尺寸包括所述研磨頭的厚度、所述研磨頭的內(nèi)徑或所述研磨頭的外徑。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于廣州粵芯半導(dǎo)體技術(shù)有限公司,未經(jīng)廣州粵芯半導(dǎo)體技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
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- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





